物理气相沉积（PVD）是一种用于在各种材料上形成薄膜的技术。
这些涂层的厚度变化很大，从原子层到几微米不等。
物理气相沉积的厚度是多少？(需要考虑的 4 个关键因素）
1.厚度范围
PVD 涂层可以薄至几个纳米，也可以厚至几个微米。
PVD 涂层的常见厚度范围为 1 至 10 微米 (µm)。
2.溅射过程持续时间的影响
PVD 涂层的厚度直接受溅射过程持续时间的影响。
溅射过程持续的时间越长，薄膜就越厚。
3.涂层粒子能量的影响
涂层粒子的能级在决定厚度方面也起着至关重要的作用。
这种能量从几十电子伏特到几千电子伏特不等，会影响沉积速率。
4.热蒸发法
热蒸发法是一种常见的 PVD 方法，涂层厚度通常在埃到微米之间。
这种方法需要加热固体材料，直到其形成蒸汽云，然后冷凝到基底上。
厚度取决于蒸发过程的持续时间和材料的蒸气压。
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