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碳再生窑的温度通常介于 650°C 至 800°C 之间。 .这一温度范围对于确保碳暴露在富含蒸汽、缺氧的环境中至关重要，可促进再生过程。窑炉的热管旋转并搅拌碳，确保碳均匀地暴露在高温环境中约 20 分钟。这一过程可有效去除杂质，恢复碳的吸附特性。

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要点说明：

1. 温度范围为 650°C 至 800°C:

   • 碳再生过程需要高温才能有效去除杂质和再生碳的吸附能力。
   • 这一温度范围可确保碳被充分加热以分解杂质，同时不会导致碳材料过度降解。

2. 富蒸汽、缺氧气氛:

   • 热管创造了一个富含蒸汽但氧气含量低的环境，这对再生过程至关重要。
   • 蒸汽有助于去除碳表面吸附的挥发性有机化合物 (VOC) 和其他污染物。

3. 热管的旋转和搅拌:

   • 热管旋转并搅拌碳，确保碳均匀地暴露在高温环境中。
   • 这种机械作用可防止局部过热，并确保所有碳颗粒都能得到一致的再生。

4. 曝光时间约 20 分钟:

   • 碳暴露在高温环境中约 20 分钟，足以实现有效再生。
   • 这一持续时间兼顾了彻底再生的需要和运行效率。

5. 再生过程的目的:

   • 主要目的是通过去除吸附的杂质来恢复碳的吸附特性。
   • 该工艺可延长碳的使用寿命，使其可重复使用且具有成本效益。

6. 对设备和消耗品采购商的重要性:

   • 了解温度要求有助于采购商选择能够维持有效碳再生所需条件的窑炉。
   • 它还有助于评估窑炉的运行效率和能耗，这是采购决策的关键因素。

通过将温度保持在指定范围内，碳再生窑可确保碳材料的最佳性能和使用寿命，因此成为采购商和运营商的重要考虑因素。

汇总表：

关键因素	详细信息
温度范围	650°C 至 800°C，用于有效去除杂质和碳再生。
气氛	富含蒸汽，缺氧，有助于去除挥发性有机化合物和污染物。
热管机制	旋转和搅拌碳，以实现均匀的曝光和一致的再生。
曝光时间	约 20 分钟，以兼顾彻底再生和效率。
用途	恢复碳的吸附性能，延长其使用寿命。
对采购商的重要性	帮助选择具有最佳温度控制和能效的窑炉。

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