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化学气相沉积（CVD）是一种将基底暴露于挥发性前驱体的工艺。
化学气相沉积的温度是多少？(4 个关键温度解释）
在典型的化学气相沉积过程中，基底会在低温下接触到一种或多种具有高蒸汽压的挥发性前驱体。
前驱体可以是氯化物或有机金属化合物。
2.油蒸馏中的高温
例如，在用于油蒸馏的抹膜短路径分子蒸馏器中，温度可高达 343 摄氏度（650 华氏度）。典型的蒸馏温度范围为 130-180 摄氏度（266-356 华氏度）。在这些系统中，原料或溶剂分布在蒸发室壁上，形成一层薄膜。 挥发性较强的成分蒸发后被单独收集，而所需的化合物则被收集到温度较低的中央冷凝器装置中。
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