惰性气体（通常为氩气）用于溅射主要是因为其惰性、溅射率高和可用性。这种气体为等离子体的形成提供了介质，不会与目标材料或基底发生反应，从而确保了溅射材料的完整性。
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惰性:氩是一种惰性气体，这意味着它不会轻易与其他元素发生反应。这一特性在溅射中至关重要，因为它可以防止气体与目标材料或基底发生化学反应。在此过程中，气体的主要作用是促进等离子体的形成，而不是参与化学反应。
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高溅射率:氩气具有很高的溅射率，这意味着它能在离子轰击时有效地从目标材料中清除原子。这种效率归功于其相对较高的原子量，从而在离子轰击过程中实现有效的动量传递。高溅射率有助于提高沉积过程的速度和效率。
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可用性和成本:与其他惰性气体相比，氩气易于获得且价格相对低廉。氩气的广泛供应和经济实惠使其成为工业和研究应用的首选，在这些应用中，成本效益是一个重要的考虑因素。
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等离子体的形成:在可控的低压条件下，将氩气引入真空室，当在靶材和基底上施加电压时，就能形成等离子体。等离子体由带正电荷的离子和自由电子组成，对溅射过程至关重要。离子被吸引到带负电的靶材（阴极）上，在那里碰撞并喷射出靶材原子，这一过程称为溅射。
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控制和灵活性:在溅射中使用氩气等惰性气体可对沉积过程进行广泛控制。通过调整气体压力和电压等参数，可以对溅射粒子的能量和分布进行微调。通过这种控制，可以沉积出具有特定性能和微观结构的薄膜。
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与反应气体的兼容性:虽然氩气是惰性气体，但可与反应性气体结合使用，以沉积氧化物、氮化物和氧氮化物等化合物薄膜。这种组合可以对沉积材料进行化学修饰，从而扩大溅射技术的应用范围。
总之，在溅射中使用氩气等惰性气体对于保持溅射材料的纯度、促进高效和可控沉积以及为薄膜形成提供具有成本效益的解决方案至关重要。
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