出于多种原因，在热蒸发之前在腔体内形成真空至关重要。这一过程可最大限度地减少气体污染，加强对气相成分的控制，并使材料的沉积具有高度的方向性和精确性，从而确保高质量的沉积过程。
真空对热蒸发至关重要的 4 个关键原因
1.最大限度地减少气体污染
真空环境大大降低了不良原子的密度。这有助于将气体污染降至最低。腔室中的任何残留气体分子都会与蒸发材料相互作用，改变其路径，并可能降低沉积薄膜的质量。通过将压力降至极低水平（通常低于 10^-5 托），蒸汽分子的平均自由路径会增加。这样，它们就可以在不与其他气体分子碰撞的情况下移动更长的距离。
2.加强对气相成分的控制
在真空中，技术人员可以更好地控制气相和气相成分。这对于制作适用于光学镀膜等应用的专用薄膜至关重要。真空环境可以精确控制沉积过程。这可确保薄膜具有所需的化学成分和特性。
3.高度定向和精确的沉积
高真空对于电阻蒸发过程至关重要。它允许蒸汽分子从源到基底直线传播。这种定向沉积对于微米和纳米制造中的升华等工艺非常重要。基底的精确对准和覆盖是必要的。当气体压力足够低时，蒸汽分子不会与气体分子发生碰撞。这就确保了沉积具有高度的方向性和均匀性。
4.确保高质量、精确和可控的沉积
总之，在热蒸发之前在腔室中形成真空对于实现高质量、精确和可控的薄膜沉积至关重要。这一过程可最大限度地减少污染，加强对沉积环境的控制，并确保沉积具有高度的方向性。这对许多先进的技术应用至关重要。
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