溅射等离子体是如何形成的？生成和控制溅射等离子体的指南

简而言之，溅射等离子体的形成是通过在充满工艺气体（通常是氩气）的真空腔内施加高电压来启动的。该电压加速自由电子，这些电子随后与气体原子碰撞并使其电离。这个过程会产生一个自持的正离子和电子云——即等离子体——从而提供轰击靶材所需的离子。

等离子体的核心功能是作为产生和加速高能离子的介质。这些离子是物理上将靶材原子击出的“抛射物”，从而实现薄膜的沉积。

等离子体生成的机制

要产生等离子体，需要三个组件：一个高真空腔、少量惰性工艺气体（如氩气）和一个高压电源。

靶材放置在称为阴极的带负电的电极上。腔室壁和基板（被涂覆的材料）通常连接到电气接地，充当阳极。

当在高压阴极和阳极之间施加高电压时，过程开始。这会在腔室内产生一个强大的电场。

气体中存在的任何自由电子都会立即并有力地从带负电的阴极加速逸出。

当这些高速电子穿过腔室时，它们会与中性氩原子发生碰撞。

如果碰撞能量足够大，它会将电子从氩原子中撞出。这会留下一个带正电的氩离子（Ar+）和另一个自由电子。

这个新产生的电子也会被电场加速，导致更多的碰撞，并在链式反应中产生更多的离子。

这种快速电离过程形成了自持等离子体：一种发光的、高能的物质状态，包含正离子、电子和中性气体原子的混合物。

当电子被加速远离靶材时，新产生的正氩离子被加速朝向带有靶材的带负电的阴极。

这些离子在穿过电场时获得显著的动能，以高速撞击靶材表面。

高能离子撞击会在靶材内部引发一系列碰撞级联，类似于台球中的一次撞击。

如果传递给表面原子的能量超过了其结合能，该原子就会被物理地撞出，或从靶材上“溅射”出去。这些被喷射出的原子随后穿过真空腔并沉积到基板上，形成薄膜。

工艺气体的压力决定了可用于电离的原子密度。较高的压力可以提高电离效率，但也可能在溅射原子到达基板之前使其散射。

施加的电压直接影响轰击离子的能量。较高的电压会导致碰撞能量更高，通常会提高溅射速率。

在一种称为磁控溅射的常见技术中，使用磁场将电子限制在靶材表面附近。这大大增加了电子-原子碰撞的概率，从而在较低的气体压力下产生更致密的等离子体，并实现更高的沉积速率。

在过低的压力下操作可能会使等离子体难以维持，导致电弧或工艺失败。相反，过高的压力会降低平均自由程，阻碍溅射过程。

过高的离子能量不仅会溅射靶材，还可能对基板造成损坏或将氩离子注入到生长的薄膜中，影响其性能。该过程需要精确的能量平衡才能有效而不具破坏性。

要实现所需的薄膜性能，需要仔细控制等离子体条件。

最终，掌握溅射过程始于对如何生成和控制等离子体的基本理解。