石墨烯是如何合成的？为您的应用选择正确的方法

石墨烯合成并非单一过程，而是一系列技术，大致分为两种方法。第一种是“自上而下”法，即将块状石墨分解成单原子层。第二种是“自下而上”法，即在基底上逐个原子地构建石墨烯，其中最著名的是通过化学气相沉积（CVD）法。

合成方法的选择是一个关键的工程决策，由最终应用决定。没有一种“最好”的石墨烯制备方法；每种技术都在质量、规模和成本之间存在根本性的权衡。

两种基本方法

从最高层面来看，所有合成方法都属于以下两类之一，取决于您是从原子构建还是从更大的材料分解。

这种方法从石墨开始——石墨本质上是无数石墨烯层的堆叠——然后将这些层分离。这在概念上类似于从一本厚书中剥离单页。

这些方法通常适用于生产大量石墨烯薄片，这些薄片可以分散在液体中以制造油墨、涂层或复合材料。

这种方法通过将单个碳原子沉积到催化基底上来构建石墨烯片。这类似于铺设单个砖块以形成一堵完美、连续的墙。

自下而上方法是制造先进电子和半导体应用所需的大面积、高质量、均匀石墨烯片的黄金标准。

具体方法的选择完全取决于目标是用于晶体管的原始薄片，还是用于复合材料的散装粉末。

这就是著名的“胶带法”，即使用胶带从一块石墨上剥离层，直到分离出单层薄片。

虽然它能生产出极其高质量、无缺陷的石墨烯，但该过程是手动的，产量极小，并且无法扩展到基础实验室研究之外。

在这种方法中，石墨浸没在液体中并经受高能量（例如超声处理）以使层分离。这会产生石墨烯薄片的分散体。

该技术可用于导电油墨和聚合物复合材料等材料的大规模生产，但所得石墨烯的电学质量通常较低，薄片尺寸也较小。

CVD涉及将含碳气体（如甲烷）流过加热的金属催化剂箔（通常是铜或镍）。碳原子在金属表面组装成连续的石墨烯片。

CVD是生产电子和光子器件所需的大面积、高质量薄膜最有前途的技术。先进的CVD技术甚至可以生产大尺寸、单晶薄片以实现极致性能。

这个多步骤过程始于石墨的剧烈化学氧化，形成氧化石墨烯（GO），氧化石墨烯很容易在水中剥离。然后对GO进行化学或热“还原”，以去除氧基团。

这种方法对于批量应用来说具有高度可扩展性和成本效益。然而，还原过程并不完美，会留下缺陷，与原始石墨烯相比，会降低材料的电学和热学性能。

选择合成方法是在管理相互竞争的优先事项。一种应用的理想方法通常完全不适用于另一种应用。

机械剥离生产近乎完美的石墨烯，但数量微乎其微。相比之下，液相剥离和rGO生产可以产生数吨材料，但存在固有的结构缺陷和较小的薄片尺寸。

能够生产高性能电子级石墨烯的方法，如CVD和碳化硅上的外延生长，复杂且昂贵。生产rGO的化学方法便宜得多，但所产生的材料不适用于高性能电子产品。

对于电子产品来说，每一个缺陷都很重要。多晶CVD石墨烯中的晶界或rGO中残留的氧会散射电子并降低器件性能。对于聚合物复合材料，这些缺陷可能不如石墨烯填料的整体数量和分散性那么关键。

最佳合成方法完全取决于您的具体目标和限制。

最终，了解石墨烯合成的格局在于将正确的工具与正确的技术问题相匹配。