射频溅射使用的频率通常在 5-30 兆赫之间，其中 13.56 兆赫是最常用的频率。之所以选择这个频率，是因为国际电信联盟《无线电管理条例》将其分配给工业、科学和医疗（ISM）仪器使用，确保其不会干扰电信服务。此外，13.56 MHz 的频率足够低，可以让氩离子有足够的时间向目标进行动量传递，这对溅射过程至关重要。
选择 13.56 MHz 具有战略意义，原因有以下几点：
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ISM 波段分配:国际电信联盟（ITU）已将 13.56 MHz 指定为 ISM 波段的一部分，专门用于工业、科学和医疗应用。这一指定有助于防止干扰其他射频通信，确保溅射工艺在运行时不会干扰或被其他射频技术干扰。
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动量传递效率:在此频率下，时间尺度有利于氩离子向目标材料有效转移动量。这一点至关重要，因为如果频率较高，离子将没有足够的时间有效转移动量，从而可能导致溅射效率降低。
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电子动力学:13.56 MHz 的频率在电子动力学方面也是平衡的。频率越高，电子在溅射过程中就越占优势，这会改变沉积特性，使其更类似于电子束蒸发。通过使用 13.56 MHz，整个过程保持了平衡，离子和电子都发挥了重要作用，但离子并没有被固定，从而确保了有效的溅射。
总之，在射频溅射中使用 13.56 MHz 频率既是符合法规要求的结果，也是与溅射过程中离子和电子相互作用的物理原理有关的实际考虑因素。该频率可确保溅射系统高效、无干扰地运行，是薄膜沉积，尤其是非导电材料沉积的理想选择。
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