在物理气相沉积（PVD）过程中，气体对各种化合物的形成起着至关重要的作用，这些化合物可增强基底材料的性能。
PVD 中使用的三大气体：氧气、氮气和甲烷
氧气
氧气常用于 PVD 工艺。
它与金属原子反应形成金属氧化物。
该反应发生在传输阶段。
金属氧化物的形成对于需要抗氧化性和提高硬度的应用至关重要。
氮气
氮气是 PVD 中使用的另一种关键气体。
它在溅射等工艺中尤为重要。
目标材料通常是钛等金属。
氮气和钛发生反应后会形成氮化钛（TiN）。
TiN 是一种坚硬、耐磨的化合物。
等离子体环境中的氮气会增强这种反应。
甲烷
甲烷在 PVD 过程中用于形成碳化物。
当目标材料为可形成稳定碳化物的金属时，甲烷的作用尤为明显。
甲烷与金属原子的反应会导致金属碳化物的沉积。
金属碳化物以其硬度和耐磨性著称。
这种气体通常用于有利于形成碳化物的特定应用中。
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