CVD 涂层或称化学气相沉积涂层，是一种用于在各种基底上涂敷薄膜涂层的工艺。
这种方法是在可控气氛反应器中，使气体前驱体在高温下（通常约为 500°C 至 1925°F）发生反应。
这些气体与加热的基材表面发生反应，形成坚硬、耐磨的涂层，并与基材发生化学和冶金结合。
需要了解的 5 个要点
1.工艺细节
CVD 工艺首先将特定气体引入反应器。
这些气体在高温下发生反应，在基底上形成薄膜。
例如，TiCl4、N2 和 H2 在 1000°C 高温下反应形成 TiN（氮化钛），这是一种常见的 CVD 涂层，以其硬度和耐磨性著称。
同样，TiCl4、CH4 和 H2 在 1030°C 下反应生成 TiC（碳化钛）。
2.CVD 涂层的优点
CVD 涂层因其耐用性和环保性而备受推崇。
它们广泛应用于需要高性能薄膜的行业，如机床、磨损部件和分析仪器。
涂层具有优异的抗磨损和抗咬合性能，是金属成型应用和其他高压力环境的理想选择。
3.环境和安全考虑因素
在 CVD 过程中会产生氯气和盐酸气体等副产品。
这些气体从腔体中排出，必须根据环境法规进行洗涤，以确保安全和合规。
4.结论
CVD 涂层是现代制造业的一项关键技术，可为精密应用提供卓越性能。
该工艺可精确控制涂层性能，确保最终产品满足各种工业应用的特定需求。
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