PECVD（等离子体增强化学气相沉积）主要用于沉积半导体制造、太阳能电池和光伏等行业中各种材料的薄膜。它能在低温下高精度地沉积薄膜，因此特别适用于需要精细控制材料特性的应用领域。
半导体制造：
在半导体行业，PECVD 被广泛用于沉积电介质层，包括二氧化硅和氮化硅。这些材料对于隔离集成电路中的多个导电层和电容器至关重要。PECVD 能够在低于 400°C 的温度下沉积这些薄膜，其优势在于可以防止损坏易损元件。此外，PECVD 还可用于沉积低介电材料，这对于降低互连器件之间的电容至关重要，从而提高集成电路的性能。太阳能电池和光伏：
PECVD 在太阳能电池和光伏产品的生产中发挥着重要作用。它用于在太阳能电池板等大面积区域均匀沉积薄膜，从而精确调整光学层的折射率。通过调整等离子参数可实现这种精确度，从而显著提高太阳能电池的效率和性能。PECVD 在这一领域的多功能性还延伸到非晶硅的沉积，非晶硅是薄膜太阳能电池中常用的材料。
其他应用：
除电子和太阳能电池外，PECVD 还应用于其他多个领域。在光学领域，它可用于制造抗反射和抗划伤涂层。在机械工程领域，PECVD 可用于沉积耐磨损、耐腐蚀、耐摩擦和耐高温的薄膜。此外，PECVD 还可用于生物医学领域，在医疗设备上沉积生物相容性涂层。
独特的能力：
