用于 SEM 样品制备的溅射镀膜是指在不导电或导电性差的样品上镀上一层超薄导电金属。这一过程对于防止带电和通过改善二次电子发射来提高信噪比从而提高 SEM 图像质量至关重要。溅射金属层的典型厚度为 2 至 20 纳米，常用的金属包括金、金/钯、铂、银、铬和铱。
详细说明：
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溅射镀膜的目的：
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溅射涂层主要用于制备扫描电子显微镜 (SEM) 所需的不导电或导电性差的试样。如果没有导电涂层，这些试样会积聚静电场，导致图像失真或因电子束相互作用而损坏试样。溅射镀膜的机理：
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- 该工艺采用溅射沉积技术，用高能粒子（通常是离子）轰击金属靶，使靶上的原子喷射出来并沉积到试样上。这样就形成了一层薄而均匀的金属层，为样品提供了导电性。溅射镀膜的优点：
- 防止带电： 通过提供导电路径，溅射涂层可防止试样上的电荷积聚，否则会导致电子束偏转并降低图像质量。
- 增强二次电子发射： 金和铂等导电金属在受到电子束撞击时能很好地发射二次电子。这可以增加信号强度，提高 SEM 图像的分辨率和对比度。
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减少热损伤： 导电涂层还有助于散发电子束产生的热量，降低敏感样品受到热损伤的风险。
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使用的金属类型
根据扫描电子显微镜分析的具体要求，可使用各种金属进行溅射镀膜，每种金属都有自己的优势。例如，金/钯因其出色的导电性和抗氧化性而经常被使用，而铂则可提供适合高分辨率成像的坚固涂层。
局限性和替代方法：
