用于 SEM 样品制备的溅射涂层是指在不导电或导电性差的样品上涂敷一层超薄导电金属。
这一过程对于防止带电和通过改善二次电子发射来提高信噪比从而提高 SEM 图像质量至关重要。
溅射金属层的典型厚度为 2 到 20 纳米，常用的金属包括金、金/钯、铂、银、铬和铱。
什么是溅射镀膜 SEM 样品制备？需要了解的 5 个要点
1.溅射镀膜的目的
溅射镀膜主要用于制备扫描电子显微镜 (SEM) 所需的不导电或导电性差的试样。
如果没有导电涂层，这些试样会积聚静电场，导致图像失真或因电子束相互作用而损坏试样。
2.溅射涂层的机理
该工艺采用溅射沉积技术，用高能粒子（通常是离子）轰击金属靶，使靶上的原子喷射出来并沉积到试样上。
这就形成了一层薄而均匀的金属层，为样品提供导电性。
3.溅射镀膜的优点
防止带电： 通过提供导电路径，溅射镀膜可防止试样上的电荷积聚，否则电荷会使电子束偏转并降低图像质量。
增强二次电子发射： 金和铂等导电金属在受到电子束撞击时能很好地发射二次电子。这可以增加信号强度，提高 SEM 图像的分辨率和对比度。
减少热损伤： 导电涂层还有助于散发电子束产生的热量，降低敏感样品受到热损伤的风险。
4.使用的金属类型
根据扫描电子显微镜分析的具体要求，可使用各种金属进行溅射镀膜，每种金属都有其优点。
例如，金/钯因其出色的导电性和抗氧化性而经常被使用，而铂则可提供适合高分辨率成像的坚固涂层。
5.局限性和替代方法
虽然金属涂层有利于大多数 SEM 成像，但由于金属的原子序数较高，它们可能会干扰 X 射线光谱。
在这种情况下，碳涂层是首选，因为它不会对 X 射线信号产生明显影响，并能提供足够的导电性。
总之，溅射镀膜是扫描电子显微镜中一项重要的样品制备技术，它通过确保样品导电来提高图像的质量和可靠性，从而防止伪影并改善信号检测。
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