CVD 涂层或化学气相沉积涂层是一种用于在表面沉积薄层材料的工艺。
这是通过气相中的化学反应在高温下完成的。
与通过传统陶瓷制造工艺生产的类似材料相比，CVD 涂层以生产细粒度、不透水、高纯度和高硬度的涂层而著称。
5 个要点说明
1.CVD 涂层工艺
CVD 工艺包括将基底暴露在一种或多种挥发性前驱体中。
这些前驱体在基底表面发生反应和/或分解，生成所需的涂层。
这一过程通常在 1000°C 左右的温度下进行。
在这种高温下，气态成分与工具表面的元素发生反应，形成具有高粘合强度的涂层。
2.CVD 涂层的特点
细粒度： 涂层由非常细小的颗粒组成，这有助于涂层的平滑性和均匀性。
不透性： 这些涂层具有很强的抗其他物质渗透的能力，是极佳的屏障。
高纯度： 用于 CVD 的材料通常非常纯净，因此涂层中的杂质极少。
高硬度： CVD 涂层比许多其他材料更坚硬，从而提高了耐用性和抗磨损性。
3.应用和优点
CVD 涂层可用于各种行业，包括机床、磨损部件和分析仪器。
在对耐磨性和耐腐蚀性要求极高的高性能精密应用领域，CVD涂层尤其具有优势。
该工艺可精确控制涂层的成分和厚度，从而满足特定的应用要求。
4.CVD 的缺点
CVD 所需的高温有时会限制其适用性。
并非所有材料都能承受这些条件而不发生降解。
此外，与其他沉积方法相比，该过程可能较慢。
它可能需要复杂的设备和受控环境。
5.CVD 中的化学反应
CVD 中的化学反应包括从各自的前驱气体中形成氮化钛 (TiN) 和碳化钛 (TiC)。
这些反应可形成坚硬、耐磨的涂层，通过化学和冶金方法与基体结合。
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