CVD 反应器的全称是化学气相沉积反应器。
CVD 反应器是用于在基底上沉积薄膜的专用系统。
它由一系列部件组成，包括气体输送系统、反应室、基底装载装置、能源、真空系统、排气系统和排气处理系统。
反应器的工作原理是将前驱体引入反应室，前驱体在反应室中发生反应或分解，从而在基底上沉积一层材料。
7 个关键组件说明
1.气体输送系统
该组件向反应腔提供必要的前驱体。
这些前驱体通常是含有沉积过程所需元素的气体。
2.反应腔
这是 CVD 系统的核心部分，实际沉积过程就在这里进行。
反应室旨在保持特定的条件，如温度、压力和气体成分，以促进反应的进行。
3.基底装载机制
该系统负责将基底引入和移出反应室。
它可确保基底在沉积过程中正确定位。
4.能量源
能量源提供必要的热量或能量，以启动和维持导致沉积的化学反应。
其形式可以是电阻加热、感应加热或微波能，如在 MW-CVD 系统中看到的那样。
5.真空系统
该系统通过去除不需要的气体和保持低压来维持反应器内的清洁环境，这一点至关重要。
这有助于控制反应条件和提高沉积薄膜的质量。
6.排气系统
反应结束后，挥发性副产品通过该系统排出反应室。
它可确保副产品不会干扰正在进行的沉积过程。
7.废气处理系统
在某些情况下，废气中可能含有有害或有毒物质，需要在排放到环境中之前进行处理。
这些系统可将这些气体转化为无害化合物。
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