PVD（物理气相沉积）涂层的原理是将固体材料转化为气态，然后沉积到基底上形成薄膜。
此过程在真空环境中进行，可确保镀膜的纯度和完整性。
PVD 镀膜原理的 5 个关键步骤
1.材料气化
在 PVD 涂层中，源材料（通常是金属或合金）被置于真空室中。
然后将材料加热到高温，使其汽化。
气化可通过不同的机制发生：
- 蒸发： 材料被加热直至变成蒸汽。
- 溅射： 使用高能粒子（通常是离子）撞击源材料中的原子，使其变成蒸汽。
2.沉积到基底上
一旦材料处于蒸气状态，它就会穿过真空室并沉积到基底表面。
基底可以由各种材料制成，包括金属、塑料或陶瓷，具体取决于应用。
沉积过程会产生附着在基底上的薄膜。
3.薄膜的形成
蒸汽在基底上凝结，形成薄膜。
这种薄膜通常只有几纳米到几微米厚。
尽管薄膜很薄，但却能显著增强基底的性能，如耐磨性、硬度和耐腐蚀性。
薄膜的均匀性和纯度对其有效性和耐用性至关重要。
4.优点和应用
PVD 涂层能够提高工具和部件的性能和使用寿命，因而备受推崇。
PVD 涂层可用于汽车、航空航天、切削工具等各行各业，也可用于装饰用途。
涂层可根据特定需求量身定制，如增强耐腐蚀性、改善外观美感或提高表面硬度。
5.环境和操作优势
PVD 镀膜是一种环保型工艺，因为它是真空镀膜，可以防止杂质，确保沉积清洁。
它还可以对无法承受高温的材料进行镀膜，从而将其适用范围扩大到更广泛的基材。
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