热气相沉积又称热蒸发，是物理气相沉积（PVD）中的一种工艺，在这种工艺中，固体材料在高真空室中加热直至汽化，然后凝结在基底上形成薄膜。这种方法因其简单高效而特别流行，尤其适用于沉积熔点相对较低的金属。
工艺概述：
- 真空室设置： 工艺开始于一个不锈钢真空室，内有一个由钨或钼等难熔材料制成的坩埚或坩埚船。要沉积的材料（蒸发剂）被放置在坩埚内。
- 加热材料： 使用电阻式热源对材料进行加热，直到其达到足以在真空环境中产生蒸汽云的蒸汽压。
- 蒸发沉积： 蒸发后的材料以蒸汽流的形式穿过腔室，沉积到基底上，基底通常倒置在腔室顶部。基底表面朝下，朝向加热源材料，以接受涂层。
详细说明：
- 真空环境： 使用高真空室至关重要，因为它可以最大限度地减少空气分子的存在，否则空气分子可能会与蒸发材料发生相互作用，从而可能改变其特性或阻碍沉积过程。
- 加热机制： 加热通常通过电阻加热实现，即电流通过与材料直接接触的线圈或灯丝。这种方法对熔点相对较低的材料非常有效，因为它可以精确控制温度，确保材料汽化时不会对坩埚或材料本身造成损坏。
- 蒸汽压： 材料的蒸汽压力是沉积过程中的一个关键因素。它决定了材料汽化的速度和蒸汽云的均匀性。要在基底上获得均匀、连续的薄膜，获得合适的蒸汽压力至关重要。
- 基底定位： 基底的定位应使其暴露在蒸汽流中的表面积最大化。这种定位还有助于控制沉积薄膜的厚度和均匀性。
校正和审查：
所提供的参考文献一致且详细，准确地描述了热气相沉积过程。无需对事实进行更正。解释涵盖了该过程的基本方面，包括设置、加热机制、蒸汽压力和基底定位，提供了对热气相沉积的全面理解。
