热蒸发是通过加热材料直至其汽化，然后将汽化物沉积到基底上形成薄膜的过程。
在热蒸发过程中，哪些参数会影响薄膜的形成？(4 个关键因素）
1.平均自由路径
平均自由路径是指蒸气原子与另一粒子碰撞前的平均移动距离。
在真空中，平均自由路径随着压力的降低而增加。
这使得蒸汽粒子可以更直接地到达基底，而不会发生散射。
直接移动对于薄膜的均匀沉积和高质量薄膜至关重要。
2.蒸汽粒子的散射
在较高的压力下，蒸汽颗粒更有可能与腔室中的残余气体发生碰撞。
这些碰撞会使蒸汽粒子散射，改变其路径，导致不均匀沉积。
散射会导致薄膜厚度不均和质量不佳。
3.清洁的基底表面
较低的基底压力可最大限度地减少残留气体中可能存在的污染物，从而有助于保持基底表面的清洁。
清洁的表面对于良好的附着力和高质量薄膜的形成至关重要。
4.稳定的涂层
保持较低的基础压力可增强涂层工艺的稳定性。
这种稳定性可确保蒸发和沉积条件在整个过程中保持一致。
这将带来可重复的高质量薄膜。
继续探索，咨询我们的专家
提升薄膜形成工艺的精度和效率。
相信 KINTEK SOLUTION 能够满足您的热蒸发需求。
我们先进的真空室可保持最佳的基底压力，确保无与伦比的平均自由通路，最大限度地减少蒸汽散射，并保证基底表面纯净无污染，从而形成高质量的薄膜。
投资我们可靠的解决方案，将您的薄膜沉积能力提升到新的高度！
