真空对溅射镀膜至关重要。它能确保表面清洁，并使材料在不受残余气体分子干扰的情况下从靶材有效地转移到基材上。
为什么溅射镀膜需要真空？4 个主要原因
1.清洁表面
高真空环境对于防止基底和镀膜材料受到污染至关重要。
在真空环境中，由于没有空气和其他气体，杂质的含量降到了最低。
这种洁净度对薄膜的附着性和稳定性至关重要。
如果基底压力不够低（通常为 10^-6 毫巴或更高），残余气体分子会与涂层材料发生作用，导致涂层不均匀或不稳定。
2.有效的材料传输
溅射是指在等离子体中的高能粒子（离子）的轰击下，将原子从目标材料中射出。
在真空中，这些喷射出的原子的平均自由路径要比大气条件下长得多。
这意味着原子可以在不与其他粒子碰撞的情况下从靶材到达基底。
较长的平均自由路径可确保原子在到达基底时有足够的能量牢固地附着，从而形成更紧凑、更耐磨的涂层。
这对于实现沉积结构的纳米级精度尤为重要。
3.气体流量控制
在溅射镀膜过程中，特定的气体（通常是氩气或氧气）会被引入真空室。
溅射过程中的压力保持在 mTorr 范围内（10^-3 至 10^-2 毫巴）。
在这种受控环境下可以精确调节气体流量，这对镀膜的均匀性和质量至关重要。
气体流量通常由流量控制器进行调节，以确保溅射过程的稳定性和可重复性。
4.防止系统问题
清洁的真空环境还有助于防止与系统相关的问题，如短路、靶材电弧和粗糙表面的形成。
这些问题可能是由于润滑油、灰尘或湿气等污染物在不清洁的溅射腔室或溅射靶上积聚造成的。
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