知识 电子束沉积如何工作?4 个关键步骤解析
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

电子束沉积如何工作?4 个关键步骤解析

电子束沉积是物理气相沉积(PVD)中的一种工艺,使用高能电子束蒸发源材料,然后以薄膜的形式沉积到基底上。

该过程在真空室中进行,以确保高纯度和对沉积的精确控制。

4 个关键步骤说明

电子束沉积如何工作?4 个关键步骤解析

1.生成电子束

该工艺首先使用电子枪产生电子束。

电子枪包含一根灯丝,通常由钨制成,加热后通过热释电发射电子。

电子被磁场加速并聚焦成束。

2.材料蒸发

聚焦的电子束射向装有待沉积材料的坩埚。

电子束的能量会加热材料,使其蒸发或升华,具体取决于材料的特性。

例如,铝等金属可能首先熔化,然后蒸发,而陶瓷则可能直接从固态升华为气态。

3.沉积到基底上

蒸发的材料形成蒸汽,蒸汽穿过真空室,凝结在坩埚上方的基底上。

基底可以旋转并精确定位,以控制沉积薄膜的均匀性和厚度。

4.增强和控制

使用离子束辅助沉积,可提高薄膜的附着力和密度,从而增强工艺的效果。

对加热、真空度和基底移动等各种参数的计算机控制可确保沉积出具有特定光学特性的保形涂层。

继续探索,咨询我们的专家

使用 KINTEK SOLUTION 探索最前沿的薄膜技术。

我们的顶级电子束沉积系统具有无与伦比的精度和纯度,可提升您的实验室能力。

今天就与 KINTEK 一起体验 PVD 的未来,在这里,创新与卓越的材料科学完美结合。

现在就联系我们,了解我们的先进设备如何彻底改变您的研究和制造流程!

相关产品

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

电子束蒸发石墨坩埚

电子束蒸发石墨坩埚

主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术,通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

用于电子束蒸发涂层的高纯度、光滑的导电氮化硼坩埚,具有高温和热循环性能。

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能,常用于电子束蒸发工艺。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

石墨蒸发坩埚

石墨蒸发坩埚

用于高温应用的容器,可将材料保持在极高温度下蒸发,从而在基底上沉积薄膜。

电子束蒸发涂层/镀金/钨坩埚/钼坩埚

电子束蒸发涂层/镀金/钨坩埚/钼坩埚

这些坩埚充当电子蒸发束蒸发出的金材料的容器,同时精确引导电子束以实现精确沉积。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉,用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备,这是一种微波等离子体化学气相沉积方法,用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

使用我们专为实验室和金刚石生长设计的 Bell-jar Resonator MPCVD 设备获得高质量的金刚石薄膜。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。


留下您的留言