热蒸发是一种用于沉积材料薄膜的技术。
它包括在高真空环境中将材料加热到其蒸发点。
这将使材料从固态或液态转变为气态。
汽化的分子随后到达基底，在那里形成薄膜涂层。
这种工艺常用于铝、银、镍、铬、镁等材料。
什么是热蒸发源？5 种主要方法说明
1.灯丝蒸发
灯丝蒸发使用简单的电加热元件或灯丝。
材料通过焦耳加热进行加热，焦耳加热是通过电流加热电阻材料的过程。
这种方法也称为电阻蒸发。
2.电子束或电子束蒸发法
在这种方法中，电子束对准源材料直接加热。
电子束的高能量使材料蒸发并进入气相。
这种方法可以精确控制加热过程，适用于灯丝加热难以蒸发的材料。
3.热分子搅拌
热蒸发基于热分子搅拌原理。
对材料加热会增加其分子的能量。
当能量超过热力学势能时，分子就会以蒸汽的形式从表面逸出。
这一原理类似于水蒸发等自然过程，但在受控的高真空环境中用于沉积材料薄膜。
4.平衡蒸汽压 (EVP)
材料在真空中开始蒸发的平衡蒸气压（EVP）约为 10-2 托。
有些材料，如钛，可以在接近熔点的温度下升华或蒸发，因此适合热蒸发过程。
5.应用和优势
热蒸发具有多种优势，包括相对较高的沉积速率、实时速率和厚度控制以及良好的蒸发流方向控制。
这使其适用于实现直接图案涂层的升华等工艺。
该技术用途广泛，操作简单，可应用于从电子产品到涂料等各行各业。
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