溅射镀膜机是一种用于在真空环境中将材料薄膜沉积到基底上的设备。
该过程包括使用辉光放电来侵蚀目标材料（通常是金），并将其沉积到试样表面。
这种方法通过抑制充电、减少热损伤和增强二次电子发射来提高扫描电子显微镜的性能。
溅射镀膜机的作用是什么？需要了解的 5 个要点
1.辉光放电的形成
溅射镀膜机通过在真空室中形成辉光放电来启动工艺。
这是通过引入气体（通常是氩气）并在阴极（目标）和阳极之间施加电压来实现的。
气体离子被激发并形成等离子体。
2.靶腐蚀
通电的气体离子轰击靶材，使其发生侵蚀。
这种被称为溅射的侵蚀会将原子从靶材料中喷射出来。
3.在基底上沉积
从目标材料喷射出的原子向各个方向运动，并沉积到基底表面。
由于溅射过程中的高能环境，这种沉积会形成一层均匀且牢固附着在基底上的薄膜。
4.扫描电子显微镜的优点
溅射涂层基底有利于扫描电子显微镜，因为它可以防止试样带电，减少热损伤，并改善二次电子发射。
这就增强了显微镜的成像能力。
5.应用和优势
溅射工艺用途广泛，可用于沉积各种材料，因此适用于各行各业制造耐用、轻质和小型产品。
溅射工艺的优点包括：可在高熔点材料上镀膜、目标材料可重复使用、无大气污染。
不过，该工艺可能比较复杂，成本较高，而且可能导致基材上出现杂质。
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