物理气相沉积（PVD）是一种用于在各种材料上形成薄膜的技术。热蒸发就是物理气相沉积的一个常见例子。
4 个关键步骤说明
1.加热固体材料
在热蒸发过程中，固体材料（通常是铝或银等金属）被置于高真空室中。
真空室的设计目的是去除大部分空气，创造一个低压环境。
然后使用加热元件或电子束对材料进行加热，通常加热到熔点。
2.形成蒸汽
材料加热后开始蒸发，形成蒸汽。
在真空室中，即使相对较低的蒸汽压力也足以在沉积室内形成可见的蒸汽云。
3.传输和沉积
蒸发的材料形成蒸汽流，蒸汽流穿过沉积室，与基底的较冷表面接触后凝结。
基底可由石英、玻璃或硅等材料制成，基底的位置应使蒸气能够沉积到其表面。
基底通常倒置在腔室顶部，表面朝下，朝向加热源材料。
4.形成薄膜
凝结的蒸汽会在基底上形成一层薄膜。
薄膜的厚度从埃到微米不等，取决于应用的具体要求。
这种薄膜可提供各种功能，如提高耐久性、导电性或光学特性，具体取决于所使用的材料和应用。
这种工艺充分体现了 PVD 技术，即通过纯物理方法将材料沉积到基底上，而不涉及任何化学反应。
这种方法广泛应用于电子工业中半导体器件导电层的沉积，以及各种材料上光学涂层和保护层的制造。
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