知识 什么是碳涂层?保护和分析应用的 7 大优势
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 3个月前

什么是碳涂层?保护和分析应用的 7 大优势

碳涂层是指在表面涂上一层碳保护层的过程。

它通常用作各类交通工具和机械(如船只和飞机)油漆的保护层。

碳涂层可提供卓越的保护,防止损坏,并将维护需求降至最低。

保护和分析应用的 7 大优势

什么是碳涂层?保护和分析应用的 7 大优势

1.卓越的表面保护

碳涂层可为各种表面提供高水平的防损保护。

因此非常适合用于运输和机械设备,如船只和飞机。

2.最少的维护需求

碳涂层的保护特性大大降低了维护需求。

从长远来看,这可以节省时间和资源。

3.电子显微镜必备

在电子显微镜领域,碳膜和碳涂层因其对成像的干扰极小和较强的电气性能而被广泛使用。

透射电子显微镜(TEM)使用的碳薄膜通常为 5 纳米或 50 埃左右。

扫描电子显微镜(SEM)中使用约 50 纳米的较厚薄膜,用于 X 射线显微分析等活动。

4.防止充电机制

扫描电子显微镜中的碳涂层是无定形的,非常有利于防止可能导致材料表面劣化的充电机制。

它们还有助于对生物样本进行有效成像。

5.非导电样品的理想选择

碳涂层特别适用于制备能量色散 X 射线光谱(EDS)的非导电试样。

这使它们成为分析应用中的重要工具。

6.多功能涂层技术

碳涂层的质量和效果会受到涂层技术的影响。

不同的涂层方法会导致涂层的微观结构不同,从而影响锂离子在涂层中的扩散和阴极的表面结构。

湿化学方法和干燥涂层方法是已研究过的两类碳涂层方法。

7.优于金属涂层

在电子显微镜应用中,碳涂层比钨和金等金属涂层更具优势。

碳涂层是无定形的,具有导电性,因此对电子是透明的。

这种透明性对于使用能量色散 X 射线光谱(EDS)分析非导电样品非常有价值。

另一方面,金属涂层会干扰分析,并改变从电子反向散射衍射 (EBSD) 中获得的晶粒结构信息。

继续探索,咨询我们的专家

您正在为您的电子显微镜需求寻找高质量的碳涂层吗?

KINTEK 是您的最佳选择!

我们的碳涂层可最大限度地减少成像干扰,防止表面老化。

它们还具有导电性,对电子透明,是制备用于 EDS 的非导电样品的理想选择。

请相信 KINTEK 能满足您所有的碳涂层要求。

立即联系我们,了解更多信息!

相关产品

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

高纯碳(C)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯碳(C)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

您正在为您的实验室需求寻找经济实惠的碳 (C) 材料吗?别再犹豫了!我们专业生产和定制的材料有各种形状、尺寸和纯度。您可以选择溅射靶材、涂层材料、粉末等。

玻璃碳电极

玻璃碳电极

使用我们的玻璃碳电极升级您的实验。安全、耐用、可定制,满足您的特定需求。立即了解我们的完整型号。

导电碳布/碳纸/碳毡

导电碳布/碳纸/碳毡

用于电化学实验的导电碳布、碳纸和碳毡。优质材料可获得可靠、准确的结果。立即订购,获取定制选项。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

玻璃碳板 - RVC

玻璃碳板 - RVC

了解我们的玻璃碳板 - RVC。这种高品质的材料是您进行实验的完美选择,它将使您的研究更上一层楼。

碳石墨舟 -带盖实验室管式炉

碳石墨舟 -带盖实验室管式炉

覆盖碳石墨舟实验室管式炉是由石墨材料制成的专用容器,可承受极端高温和化学腐蚀性环境。

碳化硅(SIC)陶瓷板

碳化硅(SIC)陶瓷板

氮化硅陶瓷是一种在烧结过程中不会收缩的无机材料陶瓷。它是一种高强度、低密度、耐高温的共价键化合物。

碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

碳化硅(SIC)耐磨陶瓷片

碳化硅(原文如此)陶瓷片由高纯度碳化硅和超细粉组成,经振动成型和高温烧结而成。

400-700nm 波长 抗反射/AR 镀膜玻璃

400-700nm 波长 抗反射/AR 镀膜玻璃

AR 涂层应用于光学表面以减少反射。它们可以是单层或多层,旨在通过破坏性干涉将反射光降至最低。

硒化锌(ZnSe)窗口/基板/光学透镜

硒化锌(ZnSe)窗口/基板/光学透镜

硒化锌是由锌蒸汽与 H2Se 气体合成的,在石墨吸附器上形成片状沉积物。

高纯钴(Co)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯钴(Co)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

根据您的独特需求,为您提供经济实惠的实验室用钴(Co)材料。我们的产品范围包括溅射靶材、粉末、箔等。如需定制解决方案,请立即联系我们!

氮化硼 (BN) 陶瓷板

氮化硼 (BN) 陶瓷板

氮化硼(BN)陶瓷板不使用铝水润湿,可为直接接触熔融铝、镁、锌合金及其熔渣的材料表面提供全面保护。

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

电子束蒸发石墨坩埚

电子束蒸发石墨坩埚

主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术,通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能,常用于电子束蒸发工艺。

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

硅(Si)被广泛认为是近红外(NIR)范围(约 1 μm 至 6 μm)应用中最耐用的矿物和光学材料之一。

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

用于电子束蒸发涂层的高纯度、光滑的导电氮化硼坩埚,具有高温和热循环性能。

石墨蒸发坩埚

石墨蒸发坩埚

用于高温应用的容器,可将材料保持在极高温度下蒸发,从而在基底上沉积薄膜。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。


留下您的留言