离子束溅射（IBS）是一种薄膜沉积技术，它使用离子源将目标材料溅射到基底上。这样可以形成高密度、高质量的薄膜。
了解离子束溅射的 5 个要点
1.离子束特性
离子束溅射法使用的离子束是单能离子束。这意味着所有离子具有相同的能级。离子束还具有高度准直性，可确保离子在紧密聚焦的离子束中传播。这种均匀性允许对沉积过程进行精确控制。
2.工艺设置
工艺开始时，将基底和目标材料放入充满惰性气体的真空室中。目标材料带负电，变成阴极。自由电子从阴极发射出来，与气体原子碰撞，使其电离并形成离子束。
3.沉积机制
离子束射向目标材料，由于动量传递，导致原子或分子喷射出来。这些喷射出的粒子穿过真空，沉积到基底上，形成薄膜。离子束的可控性确保了沉积薄膜的高质量和高密度。
4.应用
离子束溅射广泛应用于对精度和质量要求较高的领域。这包括精密光学器件、半导体器件和氮化物薄膜的生产。离子束溅射在激光棒、透镜和陀螺仪的镀膜中也非常重要，因为在这些应用中，对薄膜厚度和特性的精确控制至关重要。
5.5. 优缺点
优点： IBS 可以很好地控制薄膜厚度和性能，从而获得高质量的致密薄膜。它还能高精度地沉积各种材料。
缺点： 设备和工艺复杂且昂贵。与磁控溅射等其他沉积方法相比，吞吐量可能较低。
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