在电子束蒸发过程中，盛放金属源材料的容器称为坩埚。
电子束蒸发中有关坩埚的 5 个要点
1.坩埚的定义和功能
电子束蒸发中的坩埚是用来盛放待蒸发源材料的容器。
坩埚放置在高真空室中，是聚焦电子束的目标。
坩埚的主要功能是在电子束将材料加热到蒸发点时牢牢固定住材料。
2.坩埚的材料和结构
电子束蒸发中使用的坩埚通常由高熔点材料制成，以承受电子束产生的高热。
常用的坩埚材料包括铜、钨和陶瓷，尤其是氮化硼。
材料的选择取决于源材料的类型和蒸发过程的温度要求。
例如，高温材料可能首选陶瓷坩埚，以防止坩埚与源材料之间发生任何化学作用。
3.冷却系统
为防止坩埚本身达到高温，从而导致损坏或不必要的反应，坩埚通常配备有水冷却系统。
这种冷却机制可确保只有源材料被电子束加热，而坩埚则保持在安全的工作温度下。
4.配置和多材料处理
先进的电子束蒸发系统可包含多个坩埚，可在不破坏真空的情况下按顺序沉积不同的材料。
这种配置尤其适用于需要多层涂层的应用。
坩埚可以旋转或定位，使电子束可以依次瞄准并蒸发每种源材料，从而促进复杂的涂层工艺。
5.在蒸发过程中的作用
坩埚在电子束蒸发过程中起着至关重要的作用，它为源材料提供了一个稳定、耐热的平台。
通过精确控制电子束与坩埚中材料的相互作用，可以在基底上沉积厚度和成分可控的薄膜。
这种能力在半导体制造和光学镀膜等各种工业和科学应用中至关重要。
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