在化学气相沉积（CVD）工艺中，使用的气体主要是载气。这与实际形成蒸气和涂层的前驱气体不同。载气负责将前驱体气体输送到反应室，并从反应室中清除任何挥发性副产品。
4 种基本载气解释
1.载气的作用
在 CVD 中，载气对于保持沉积过程的完整性和效率至关重要。它们输送前驱体气体，而前驱体气体是基底上沉积材料的实际来源。
载气可确保前驱气体均匀地到达基底。它们还有助于清除反应室中任何不需要的副产品。
2.载气类型
CVD 最常用的载气是氢、氩和氮。选择这些气体是因为它们是惰性气体。这意味着在沉积条件下，它们不会与前驱气体或基底发生反应。
这种惰性对于防止可能降低沉积薄膜质量的不必要化学反应至关重要。
3.CVD 过程中的功能
前驱体气体进入反应室后，会与加热的基底发生化学反应，从而沉积出薄膜。载气有助于维持反应腔内的受控环境。
它们可确保化学反应按计划进行。载气还有助于去除副产品，这些副产品是前驱体气体与基底发生化学反应后形成的。
这种清除对于防止污染和保持沉积薄膜的纯度至关重要。
4.优化和监控
包括载气在内的工艺气体分析对于监控和优化 CVD 工艺至关重要。通过分析废气流，可以深入了解基底表面发生的化学反应。
这种分析有助于调整工艺参数，以获得所需的薄膜特性，如厚度、均匀性和成分。
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