真空镀膜在各行各业都至关重要。它们提供了一个保护层，可提高耐用性和性能，同时又不会增加过厚的厚度或产生其他不必要的副作用。
为什么要在镀膜时使用真空？5 个主要原因
1.蒸发原子的平均自由路径更长
在真空环境中，蒸发原子的平均自由路径要比大气条件下长得多。
这意味着原子在从源到目标的过程中不会散射出残留的气体分子。
这种直接、无散射的路径可确保镀膜均匀、高效地进行，而不受环境气体的干扰。
2.涂层附着的清洁表面
真空环境可确保待镀膜表面清洁无污染。
这种清洁度对于蒸发原子正确附着在表面上，形成稳定持久的涂层至关重要。
如果没有真空环境，污染物或残留气体的存在会导致附着力差和涂层不稳定。
3.环保优势
真空镀膜工艺因其环保优势而备受青睐。
它们是干式工艺，可降低化学污染的风险。
4.精确控制气相和气相成分
真空镀膜工艺可精确控制气相和气相成分。
这样就能制造出具有特定化学成分的专用薄膜。
这在光学镀膜和其他高精度应用中尤为重要。
5.高质量、耐用和精确控制的涂层
在镀膜过程中使用真空对于获得高质量、耐用和精确控制的镀膜至关重要。
这些涂层可满足从航空航天到医疗工具等各种工业应用的严格要求。
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