是的，铝可以通过溅射沉积。
总结：
通过溅射沉积铝是一种常用且有效的方法，广泛应用于半导体和光学媒体等行业。这种技术是使用溅射系统，用离子轰击铝靶，使铝原子喷射出来并沉积到基底上，形成薄膜。
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说明：溅射工艺：
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- 溅射是一种物理气相沉积（PVD）方法，通过高能粒子（通常是离子）对目标的轰击，将固态目标材料中的原子喷射到气相中。这种工艺用于制造包括铝在内的材料薄膜。参考文献提到，溅射系统可沉积多种材料，其中特别列出了可用作沉积靶材的铝。铝溅射的应用：
- 半导体工业： 铝在半导体工业中被广泛用于制造互连层。参考文献强调，等离子体诱导溅射是在这些应用中沉积铝的最便捷技术，因为它具有更好的阶跃覆盖率，并能形成可进一步蚀刻成导线的金属薄膜。
- 光学介质： 在制造 CD 和 DVD 时也会使用铝溅射，沉积一薄层铝以形成数据存储和检索所需的反射层。
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其他应用： 溅射技术的多功能性使其可用于在各种其他应用中沉积铝，例如在玻璃上制作低辐射涂层和塑料金属化。
技术细节：
溅射系统通常包括一个目标（在本例中为铝）和一个进行沉积的基底。系统可由直流或射频源供电，基底支架可旋转和加热，以优化沉积过程。沉积铝膜的厚度可以控制，通常可控制在几百纳米以内，具体取决于应用的具体要求。
