知识 电子束是如何制造的?解释 4 种关键方法
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

电子束是如何制造的?解释 4 种关键方法

电子束是通过各种方法产生的,主要涉及在真空环境中操纵自由电子。

这些电子束在半导体制造、焊接和薄膜沉积等众多应用中至关重要。

电子束的产生通常涉及加热灯丝以释放电子,然后利用电场和磁场对电子进行聚焦和定向。

4 种主要方法说明

电子束是如何制造的?解释 4 种关键方法

1.真空环境

目的:电子束需要真空环境,以防止与空气分子发生碰撞,从而散射电子并破坏电子束的完整性。

实现:工作舱和电子束发生系统都是抽真空的,以确保电子束的产生和畅通无阻的传播。

2.电子产生方法

热离子发射:将通常由钨制成的灯丝加热到高温(2000 摄氏度以上),使电子从金属丝中分离出来,产生动能。

场发射:强电场也会导致电子从表面发射。

二次电子发射:用带电粒子轰击表面可导致二次电子发射。

3.聚焦和引导电子

磁场:安装在电子束源附近的磁铁会产生磁场,将电子聚焦成束,并将其引向目标。

电场:电场也可用于操纵电子束的轨迹和聚焦。

4.电子束的应用

焊接:电子束的快速加热效应可迅速熔化目标材料,因此非常适合焊接应用。

薄膜沉积:在电子束镀膜等工艺中,电子束加热坩埚中的蒸发剂,然后蒸发并凝结在基底上形成薄膜。

半导体制造:电子束用于光刻和其他工艺,在半导体材料上形成精确的图案和结构。

5.能量转换

热能和动能:当电子束与固态物质碰撞时,电子的动能会转化为热能,可用于各种工业流程。

损耗:通过背散射电子、二次电子、热电子和 X 射线会损失一些能量。

6.精度与控制

计算机控制系统:现代电子束焊机通常使用计算机控制偏转系统,以在工件的选定区域内精确移动电子束,确保精确和可重复的结果。

通过了解这些要点,实验室设备采购人员可以更好地理解电子束技术的复杂性和功能,从而在为特定应用选择合适设备时做出更明智的决定。

继续探索,咨询我们的专家

使用 KINTEK SOLUTION 的尖端实验室设备,探索电子束技术的强大功能。

我们先进的系统专为精确和控制而设计,可确保无缝应用于半导体制造、焊接和薄膜沉积。

提升您的实验室能力--现在就联系我们的专家,找到满足您需求的完美解决方案。

让 KINTEK SOLUTION 无与伦比的专业知识引导您实现无与伦比的精度和性能。

现在就联系我们!

相关产品

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

电子束蒸发石墨坩埚

电子束蒸发石墨坩埚

主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术,通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能,常用于电子束蒸发工艺。

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

用于电子束蒸发涂层的高纯度、光滑的导电氮化硼坩埚,具有高温和热循环性能。

电子束蒸发涂层/镀金/钨坩埚/钼坩埚

电子束蒸发涂层/镀金/钨坩埚/钼坩埚

这些坩埚充当电子蒸发束蒸发出的金材料的容器,同时精确引导电子束以实现精确沉积。

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

了解采用高熔点电极的非消耗性真空电弧炉的优点。体积小、易操作、环保。是难熔金属和碳化物实验室研究的理想之选。

小型真空钨丝烧结炉

小型真空钨丝烧结炉

小型真空钨丝烧结炉是专为大学和科研机构设计的紧凑型实验真空炉。该炉采用数控焊接外壳和真空管路,可确保无泄漏运行。快速连接的电气接头便于搬迁和调试,标准电气控制柜操作安全方便。

高纯锗(Ge)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

高纯锗(Ge)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格为您的实验室需求提供高品质的金材料。我们定制的金材料有各种形状、尺寸和纯度,可满足您的独特要求。了解我们的溅射靶材、涂层材料、箔、粉末等产品系列。

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉为立式或卧式结构,适用于在高真空和高温条件下对金属材料进行退火、钎焊、烧结和脱气处理。它也适用于石英材料的脱羟处理。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉,用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。

真空钎焊炉

真空钎焊炉

真空钎焊炉是一种用于钎焊的工业炉,钎焊是一种金属加工工艺,使用熔化温度低于基体金属的填充金属将两块金属连接起来。真空钎焊炉通常用于要求连接牢固、清洁的高质量应用场合。

钼/钨/钽蒸发舟

钼/钨/钽蒸发舟

蒸发舟源用于热蒸发系统,适用于沉积各种金属、合金和材料。蒸发舟源有不同厚度的钨、钽和钼,以确保与各种电源兼容。作为一种容器,它可用于材料的真空蒸发。它们可用于各种材料的薄膜沉积,或设计成与电子束制造等技术兼容。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

电化学工作站/恒电位仪

电化学工作站/恒电位仪

电化学工作站又称实验室电化学分析仪,是专为精确监测和控制各种科学和工业流程而设计的精密仪器。

热蒸发钨丝

热蒸发钨丝

它具有很高的熔点、导热性和导电性以及耐腐蚀性。它是高温、真空和其他行业的重要材料。

在线 XRF 分析仪

在线 XRF 分析仪

AXR Scientific 在线 XRF 分析仪 Terra 700 系列可灵活配置,并可根据工厂生产线的布局和实际情况,与机械臂和自动化设备有效集成,形成满足不同样品特性的高效检测解决方案。整个检测过程由自动化控制,无需过多的人工干预。整个在线检测解决方案可全天候对生产线产品进行实时检测和质量控制。

带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备

带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备

KT-PE12 滑动 PECVD 系统:功率范围广、可编程温度控制、滑动系统快速加热/冷却、MFC 质量流量控制和真空泵。

XRF 光谱仪模块

XRF 光谱仪模块

Scientific 在线 XRF 光谱仪模块系列可灵活配置,并可根据工厂生产线的布局和实际情况,与机械臂和自动化设备有效集成,形成符合不同样品特性的高效检测解决方案。


留下您的留言