PVD 涂层或物理气相沉积是一种用于在各种材料上涂敷薄膜的工艺。
该工艺包括在真空室中蒸发固体材料，然后将其沉积到目标材料上。
PVD 涂层可改变物体的表面特性，提供新的机械、化学、电气或光学特性。
PVD 涂层具有极高的表面硬度、低摩擦系数、防腐蚀和耐磨损特性。
PVD 涂层是如何工作的？3 个关键步骤说明
1.在真空室中蒸发
PVD 工艺首先将固体材料（称为靶材）放入真空室。
真空环境至关重要，因为它可以最大限度地减少可能干扰气化和沉积过程的空气分子的存在。
然后使用蒸发或溅射等各种技术对目标材料进行气化。
这些方法包括加热目标材料，使其从固态转变为气态。
2.在目标材料上沉积
一旦目标材料处于蒸气状态，它就会沉积到被称为基底的物体表面。
这种沉积是逐个原子或分子进行的，可确保涂层的高纯度和均匀性。
蒸汽在基底上凝结，形成一层薄膜，牢固地附着在表面上。
这种逐原子沉积机制不仅能提高薄膜的附着力，还能使用多种材料为各种基底镀膜。
3.增强表面性能
PVD 涂层工艺可显著增强基材的表面性能。
它可以提供极高的表面硬度，这对工具和切削器具非常有利。
低摩擦系数使涂层表面更耐磨损，这对机械部件特别有用。
此外，PVD 涂层还具有防腐蚀性能，可保护基材不受潮湿和化学物质等环境因素的影响。
在汽车、航空航天和制造业等材料必须承受恶劣条件和高强度应力的行业中，这些增强性能至关重要。
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