PVD 涂层或物理气相沉积涂层是一种将材料薄层沉积到基底表面的工艺。
材料被气化后在真空室中沉积到基材上。
这样就形成了一层薄而均匀的涂层。
5 个关键步骤说明
1.清洁基底
基底需要经过清洁过程，以去除任何污垢、碎屑或污染物。
可采用各种清洁方法，如机械或化学清洁。
2.预处理
基底要经过预处理，以增强涂层的附着力。
阳极氧化或等离子蚀刻等技术可用于在基材上形成粗糙的表面。
3.真空沉积
基底在真空沉积室中准备好进行 PVD 镀膜。
将形成涂层的目标材料加热至汽化。
然后将汽化的材料沉积到基底表面。
4.形成涂层
该工艺形成的薄膜厚度只有几纳米到几微米。
真空沉积过程可确保 PVD 涂层不含杂质。
5.PVD 涂层的优点
PVD 镀膜可显著提高硬度、耐腐蚀性、耐磨性和外观美感。
在真空沉积室中进行实际的 PVD 涂层之前，该过程包括清洁和预处理步骤。
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