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PVD 涂层需要使用各种气体，主要是氩气等惰性气体以及氮气、氧气和甲烷等活性气体。这些气体对形成具有特定物理、结构和摩擦学特性的薄膜至关重要。
溅射工艺中的氩气：
氩气是溅射工艺中最常用的气体，也是 PVD 涂层中的一种方法。之所以选择这种惰性气体，是因为它的原子量足以将原子从目标材料中分离出来，而不会与其发生化学反应。溅射工艺包括在等离子介质中向目标材料发射离子，其中氩气作为介质可促进材料从目标材料转移到基底。PVD 涂层中的反应气体：
除惰性气体外，在金属沉积过程中还会将反应性气体引入真空室。这些气体包括氮气、氧气和甲烷。使用这些气体可生成各种复合涂层成分，如金属氧化物、氮化物和碳化物。例如，当金属离子在传输阶段与氮气或氧气发生反应时，就会分别形成氮化物或氧化物，它们以硬度和耐磨性著称。
气体在 PVD 涂层中的作用：
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