物理气相沉积（PVD）涂层涉及使用各种气体来形成具有特定性能的薄膜。
这些气体对于形成具有独特物理、结构和摩擦学特性的涂层至关重要。
5 种基本气体解释
1.溅射工艺中的氩气
氩气是溅射工艺中最常用的气体，也是 PVD 涂层中的一种方法。
之所以选择这种惰性气体，是因为它的原子量足以将原子从目标材料中分离出来，而不会与其发生化学反应。
溅射工艺包括在等离子介质中向目标材料发射离子，氩气作为介质可促进材料从目标材料转移到基底。
2.PVD 涂层中的反应气体
在金属沉积过程中，除了惰性气体外，真空室中还会引入反应性气体。
这些气体包括氮气、氧气和甲烷。
使用这些气体可生成各种复合涂层成分，如金属氧化物、氮化物和碳化物。
例如，当金属离子在传输阶段与氮气或氧气发生反应时，就会分别形成氮化物或氧化物，它们以硬度和耐磨性著称。
3.气体在 PVD 涂层中的作用
PVD 涂层中使用的气体对沉积过程中发生的化学反应起着至关重要的作用。
这些反应负责在基底上形成薄膜，影响薄膜的机械、化学和光学特性。
要获得理想的涂层特性，如附着力、硬度、耐磨性和耐腐蚀性，精确控制混合气体及其流速至关重要。
4.氮气
氮气是 PVD 涂层中使用的主要活性气体。
它与金属离子反应形成氮化物，氮化物以其优异的硬度和耐磨性而著称。
氮基涂层通常用于要求高耐久性和抗机械应力的应用中。
5.氧气
氧气是 PVD 涂层中另一种重要的活性气体。
它与金属离子反应形成氧化物，具有优异的耐腐蚀性和光学特性。
基于氧气的涂层通常用于对环境因素的保护至关重要的应用中。
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