CVD（化学气相沉积）通常被认为优于 PVD（物理气相沉积），因为它具有几个关键优势。
CVD 相对于 PVD 的 4 个主要优势
1.更高的工作压力
CVD 的工作压力高于 PVD。
因此无需使用高真空泵。
如果系统不需要对有毒气体进行广泛的气体管理，则可降低成本。
2.非视线沉积
较高的压力加上 CVD 的层流特性，可实现非视线沉积。
这使得保形薄膜可以沉积在表面不规则或密集排列的基底上。
3.高纯度和高密度薄膜
CVD 能以相对较高的沉积速率生成高纯度、高密度的薄膜或颗粒。
这种能力对于需要均匀涂层和高纯度的应用至关重要。
CVD 还具有多功能性，可沉积多种材料，包括金属、陶瓷和半导体薄膜。
4.经济效益
CVD 具有经济效益，减少了对高真空条件的需求。
这增强了 CVD 在许多应用中的吸引力。
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