化学气相沉积（CVD）是纳米制造中的一项关键技术，主要用于通过基底上的气态前驱体的化学反应沉积薄膜和合成先进材料。这种方法用途广泛，能够生产包括金属、非金属和复杂混合结构在内的多种材料，因此对电子、医药和航空航天等各行各业都至关重要。
详细说明：
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CVD 的机理：
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CVD 采用自下而上的纳米制造技术原理，通过在表面上（通常是金属箔）沉积原子并使其发生反应，从而逐个原子地制造材料。该工艺包括加热蒸气形式的前驱体材料，然后在高温下的抽真空室中使其在基底上发生反应或分解。这种方法可以精确控制沉积材料的成分和结构。CVD 的变体：
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CVD 有多种变体，每种变体都是根据特定需求和条件量身定制的。其中包括低压气相沉积（LPCVD）、常压气相沉积（APCVD）、等离子体增强气相沉积（PECVD）以及光辅助和激光辅助气相沉积等其他方法。在工艺控制和可合成的材料类型方面，每种变体都具有独特的能力。
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纳米制造中的应用：
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CVD 被广泛应用于半导体行业，特别是互补金属氧化物半导体（CMOS）技术的制造，该技术是集成电路、微处理器和存储芯片的基础。此外，CVD 在二维材料（如石墨烯和其他碳基纳米材料，如富勒烯和碳纳米管）的规模化合成中也发挥着至关重要的作用。优势与挑战：
CVD 的主要优势在于其多功能性和精确性，可以制造复杂的材料和结构。然而，自动化商业系统的成本可能会让一些研究小组和初创公司望而却步。为了缓解这一问题，我们开发了 CVD 系统的开源设计，使这项技术更容易获得。
