知识 什么是薄膜的化学气相沉积工艺?(4 个关键步骤详解)
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

什么是薄膜的化学气相沉积工艺?(4 个关键步骤详解)

化学气相沉积(CVD)是一种通过化学反应从气相沉积薄膜材料的工艺。

这种方法可用于制造各种薄膜,包括半导体、绝缘体、金属和有机物。

这些薄膜对于制造微电子和光电设备以及各种涂层至关重要。

生产的薄膜可以是外延的、多晶的或无定形的,沉积可以是选择性的或非选择性的,涉及同向或异向沉积。

什么是薄膜的化学气相沉积工艺?(四个关键步骤详解)

什么是薄膜的化学气相沉积工艺?(4 个关键步骤详解)

1.蒸发前驱体化合物

第一步是蒸发待沉积材料的挥发性化合物。

这种化合物通常是气体或蒸汽,被引入沉积室。

2.热分解和化学反应

蒸汽经过热分解变成原子和分子,或与基底表面的其他气体、蒸汽或液体发生反应。

这一步骤需要特定的条件,包括高温(约 1000°C)和从几托到高于大气压的压力。

3.在基底上沉积

然后将上一步中的非挥发性反应产物沉积到基底上,形成一层薄膜。

薄膜的特性(如成分、厚度和微观结构)对其特定应用性能至关重要。

4.分类和应用

CVD 有别于物理气相沉积(PVD)方法,后者涉及溅射、蒸发或升华等物理过程,没有化学反应。

CVD 和 PVD 的目标都是沉积具有可控和可重现特性的薄膜,这些特性可以是化学、机械、电气或光学特性。

CVD 尤其以其精确性和可控性而著称,可以制造出具有非常具体的特征和特性的薄膜。

它广泛应用于半导体制造、薄膜太阳能电池以及工具和其他工业产品涂层的生产。

该工艺可适应各种化学成分和前驱体,因此可用于不同的应用领域和未来的技术进步。

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