PVD（物理气相沉积）蒸发法是一种利用热能将固体材料转化为蒸汽的工艺。
然后，蒸汽在高真空环境中凝结，在基底上形成薄膜。
这种方法是最简单、最常见的 PVD 形式之一。
它使用电阻加热或电子束加热来达到沉积所需的蒸汽压力。
什么是 PVD 蒸发法？(三个关键步骤说明）
1.加热方法
使用电阻热源或电子束加热材料。
这取决于所采用的蒸发方法的具体类型。
电阻加热
在这种方法中，使用电阻热源将材料加热到熔点。
当材料熔化时，它就会汽化，产生蒸汽压力，将材料推向基底。
电子束加热
另外，还可以使用电子束直接加热材料。
这种方法对于使用电阻加热难以蒸发的材料尤为有效。
聚焦电子束可提供使材料气化所需的能量。
2.环境
蒸发过程在高真空室中进行。
这对于防止污染和使蒸发的材料不受阻碍地到达基底至关重要。
高真空环境可确保气化材料不与大气中的任何气体发生反应。
它能保持薄膜的纯度。
它还能使蒸气从源到基底呈直线传播，确保均匀沉积。
3.沉积
基底通常会被加热到一定温度，通常高于 150 °C。
这样可以增强沉积薄膜的附着力。
加热还有助于蒸发原子的表面迁移，使其形成更均匀、更连续的薄膜。
沉积过程包括粘附、吸附、表面迁移、成核和生长等几个阶段。
每个阶段对于最终薄膜的质量和性能都至关重要。
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