PVD（物理气相沉积）涂层的低温通常在 50 至 500 摄氏度之间。
这一温度范围适用于大多数材料，可将变形降至最低并保持基底的完整性。
该工艺在高真空室中进行，有利于薄膜的沉积，而不需要可能损坏热敏材料的高温。
关于低温 PVD 涂层的 5 个重要见解
1.PVD 涂层工艺
PVD 镀膜工艺是将源材料蒸发成原子或分子等离子体，然后沉积到基底上。
这是在真空条件下进行的，因此热源可在室温基底附近产生蒸汽。
2.真空中的热传输
由于真空中不存在传导和对流，因此热传导只通过辐射进行。
这种方法尤其适用于对高温敏感的材料，如高速钢（HSS）和硬质合金切削工具，以及公差很小的零件。
3.降低加工温度的重要性
在 PVD 涂层中，保持较低工艺温度的能力至关重要，因为只要保持适当的拉伸温度，就能防止大多数材料变形。
这对于注塑模具和光学镀膜等精密部件尤为重要，因为即使是轻微的变形也会影响部件的性能和精度。
4.PVD 涂层的多功能性
PVD 涂层的温度范围较低，在 50 至 500 摄氏度之间，这确保了该工艺可应用于多种材料，而不会造成热损伤或明显变形。
这使其成为在各种基底上沉积薄膜的一种通用而有效的方法。
5.5. KINTEK SOLUTION 的先进技术
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