PVD 电镀又称物理气相沉积电镀，是一种利用气化和冷凝作用在表面沉积一薄层材料的工艺。
7 个关键步骤说明
1.PVD 电镀简介
该工艺首先将待镀物品置于真空室中。
然后用涂层材料的离子或原子轰击物品。
这些原子与表面结合，形成一层持久而有弹性的涂层。
2.清洁基底
在 PVD 涂层工艺开始之前，要对基底或待涂层材料进行彻底清洁。
这对于确保涂层的良好附着力和化学结合力非常重要。
可采用机械或化学清洗等各种清洗方法来获得清洁的表面。
3.基底的预处理
清洁后，基底可能需要进行预处理，以进一步提高涂层的附着力。
这可能涉及阳极氧化或等离子蚀刻等技术。
这些技术可在基材上形成粗糙的表面，使涂层更容易附着。
4.开始 PVD 电镀工艺
一旦基底准备就绪，PVD 电镀工艺就开始了。
涂层材料在真空室中通过热蒸发、离子镀或溅射蒸发。
在热蒸发过程中，材料被加热，导致原子从源喷射出来。
在离子镀过程中，生长的薄膜会同时受到离子轰击。
在溅射过程中，原子在气态离子的撞击下从固体靶表面喷出，然后沉积在基底表面。
5.汽化和凝结
气化后的涂层材料从凝结相移动到气相，然后又回到薄膜凝结相。
涂层中原子、分子或离子的这种迁移对薄膜的形成至关重要。
原子或分子在低温基底上的高温气相沉积形成了光滑均匀的涂层。
6.耐用性和寿命
PVD 电镀以其耐用性和使用寿命长而著称。
通过 PVD 电镀产生的薄膜涂层能牢固地附着在基底上。
因此具有极佳的附着力和抗磨损、抗腐蚀和抗褪色能力。
该工艺可沉积厚度精确的薄膜，因此适用于广泛的应用领域。
7.工艺概述
总之，PVD 电镀过程包括清洁和制备基底。
在真空室中蒸发涂层材料。
在表面沉积一层薄而耐用的涂层。
这种工艺具有极佳的附着力、耐腐蚀性和使用寿命，因此 PVD 镀层成为增强各种物体表面性能的热门选择。
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