知识 PECVD 使用哪些材料?- 5 种关键材料解析
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

PECVD 使用哪些材料?- 5 种关键材料解析

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种用于沉积各种材料的复杂技术。

PECVD 使用哪些材料?- 5 种关键材料解析

PECVD 使用哪些材料?- 5 种关键材料解析

1.碳基材料

PECVD 通常用于沉积金刚石和类金刚石碳 (DLC) 薄膜等形式的碳。

这些材料因其硬度和电气性能而备受推崇。

它们在耐磨涂层和电子设备等应用中至关重要。

2.金属

PECVD 还能沉积各种金属。

该工艺使用含金属的前驱气体,在等离子体中电离形成金属薄膜。

这些薄膜在微电子和光学涂层中至关重要。

3.氧化物

PECVD 广泛用于沉积氧化物薄膜,特别是二氧化硅。

这些薄膜对半导体制造中的绝缘层和钝化层至关重要。

该工艺通常使用硅烷(SiH4)和氧气(O2)或氧化亚氮(N2O)作为前驱气体。

4.氮化物

氮化硅是 PECVD 沉积的另一种常见材料。

氮化硅具有优异的电绝缘性能,并能阻隔湿气和其他污染物。

沉积过程涉及硅烷(SiH4)、氨气(NH3)或氮气(N2)等气体。

5.硼化物

硼化物薄膜虽然不太常见,但也可以使用 PECVD 沉积。

这些材料具有高硬度和热稳定性。

它们适用于耐磨涂层和高温电子产品。

沉积过程

在 PECVD 中,前驱体气体混合物被引入反应器。

13.56 MHz 的射频 (RF) 能量用于产生等离子体。

等离子体中含有气体内部碰撞产生的活性高能物质。

这些活性物质随后扩散到基底表面,在那里吸附并反应形成薄膜。

与传统的 CVD 相比,使用等离子体可使这些反应在更低的温度下发生,这对于保持对温度敏感的基底的完整性至关重要。

前驱体要求

PECVD 所用的前驱体必须易挥发,不会在沉积薄膜中留下杂质,并能提供所需的薄膜特性,如均匀性、电阻和粗糙度。

此外,表面反应产生的所有副产品都必须易挥发,并且在真空条件下易于去除。

继续探索,咨询我们的专家

通过 KINTEK SOLUTION 探索 PECVD 的创新能力。

从碳基薄膜到先进的氮化物和硼化物,我们的 PECVD 解决方案旨在增强您在微电子、耐磨涂层等领域的研发能力。

体验 KINTEK SOLUTION 的精确和控制,获得无与伦比的薄膜质量和性能。

现在就联系我们,将您的材料研究提升到新的高度!

相关产品

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备

带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备

KT-PE12 滑动 PECVD 系统:功率范围广、可编程温度控制、滑动系统快速加热/冷却、MFC 质量流量控制和真空泵。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉,用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备,这是一种微波等离子体化学气相沉积方法,用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

KT-CTF16 客户定制多功能炉是您的专属 CVD 炉。可定制滑动、旋转和倾斜功能,用于精确反应。立即订购!

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

使用我们专为实验室和金刚石生长设计的 Bell-jar Resonator MPCVD 设备获得高质量的金刚石薄膜。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。

CVD 掺硼金刚石

CVD 掺硼金刚石

CVD 掺硼金刚石:一种多功能材料,可实现量身定制的导电性、光学透明性和优异的热性能,应用于电子、光学、传感和量子技术领域。

915MHz MPCVD 金刚石机

915MHz MPCVD 金刚石机

915MHz MPCVD 金刚石机及其多晶有效生长,最大面积可达 8 英寸,单晶最大有效生长面积可达 5 英寸。该设备主要用于大尺寸多晶金刚石薄膜的生产、长单晶金刚石的生长、高质量石墨烯的低温生长以及其他需要微波等离子体提供能量进行生长的材料。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

氮化硅(SiNi)陶瓷薄板精密加工陶瓷

氮化硅(SiNi)陶瓷薄板精密加工陶瓷

氮化硅板在高温下性能均匀,是冶金工业中常用的陶瓷材料。

碳化硅(SIC)陶瓷板

碳化硅(SIC)陶瓷板

氮化硅陶瓷是一种在烧结过程中不会收缩的无机材料陶瓷。它是一种高强度、低密度、耐高温的共价键化合物。

碳化硅 (SiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

碳化硅 (SiC) 溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

正在为您的实验室寻找高质量的碳化硅 (SiC) 材料?别再犹豫了!我们的专家团队以合理的价格根据您的确切需求生产和定制碳化硅材料。立即浏览我们的溅射靶材、涂层、粉末等产品系列。

用于热管理的 CVD 金刚石

用于热管理的 CVD 金刚石

用于热管理的 CVD 金刚石:导热系数高达 2000 W/mK 的优质金刚石,是散热器、激光二极管和金刚石氮化镓 (GOD) 应用的理想之选。

切削工具坯料

切削工具坯料

CVD 金刚石切削刀具:卓越的耐磨性、低摩擦、高导热性,适用于有色金属材料、陶瓷和复合材料加工

石墨蒸发坩埚

石墨蒸发坩埚

用于高温应用的容器,可将材料保持在极高温度下蒸发,从而在基底上沉积薄膜。

耐高温光学石英玻璃板

耐高温光学石英玻璃板

探索光学玻璃板在电信、天文等领域精确操纵光线的强大功能。用超凡的清晰度和定制的折射特性开启光学技术的进步。


留下您的留言