在 PVD（物理气相沉积）和 CVD（化学气相沉积）技术中使用的催化剂是钴、铁、镍及其合金。这些催化剂通常用于通过 CVD 方法生产碳纳米管 [10，11]。在 CVD 中，可以使用不同的活化途径，如等离子体火炬 CVD、热丝化学气相沉积（HFCVD）和微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）[10]。这些方法可用于在各种基底上生长不同质量的金刚石薄膜，具体取决于所需的应用[10]。
PVD 技术与 CVD 不同，它是将固体源材料轰击成原子，然后将这些原子沉积在基底上，而不是使用气体分子沉积固体涂层 [29]。因此，PVD 通常不会像 CVD 那样使用催化剂。
总之，CVD 技术（包括 PVD 和 CVD 方法）中使用的催化剂是钴、铁、镍及其合金。这些催化剂在碳纳米管的生长和高质量金刚石薄膜的沉积过程中起着至关重要的作用。
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