使用化学气相沉积（CVD）的主要原因是它具有多功能性，能够生成超薄涂层，并适用于各种材料和行业。这种方法可对沉积过程进行精确控制，从而生产出经得起极端条件考验且适用于复杂表面的耐用涂层。
多功能性和控制：
CVD 是一种通用性很强的方法，因为它依赖于可在真空环境中精确控制的化学反应。通过这种控制，制造商可以决定沉积的时间和条件，确保沉积材料达到所需的性能。该工艺可进行调整，以优化耐腐蚀性、耐磨性或高纯度等特性，因此适用于广泛的应用领域。创建超薄层：
CVD 最显著的优势之一是能将材料沉积成超薄层。这在电子和太阳能电池等行业至关重要，因为这些行业需要薄层材料。例如，在电路生产中，CVD 是理想的选择，因为它可以沉积足够薄的材料层，以实现必要的导电性和功能性。
适用于各种材料和行业：
CVD 可用于各种材料，包括陶瓷、金属和玻璃。这种广泛的适用性意味着它可用于从电子到切割工具和太阳能电池等各种行业。在电子领域，CVD 可用于在半导体上沉积薄膜；在切割工具领域，CVD 可用于工具涂层，以防止腐蚀和磨损，从而提高工具的整体性能。在太阳能电池领域，CVD 被用于制造薄膜太阳能电池，在基底上沉积一层或多层光电材料。
极端条件下的耐用性和性能：
