PVD 涂层是通过一种称为物理气相沉积的工艺进行涂敷的。
该工艺是在物体表面沉积一层薄薄的固体材料，以增强其耐久性和其他性能。
该工艺在真空室中进行，不需要在被涂物体表面进行化学反应。
如何应用 PVD 涂层？5 个关键步骤说明
1.工艺设置
PVD 过程在真空室中进行，温度通常在 50 到 600 摄氏度之间。
真空环境至关重要，因为它允许气化材料直接到达目标，而不受空气分子的干扰。
2.沉积技术
热蒸发
将待镀膜材料加热至汽化，然后蒸汽在基底上凝结形成薄膜。
溅射沉积
将目标材料与待镀膜物品一起放入腔体内。
腔体内充满惰性气体，然后对靶材施加高压，使其发出微粒，微粒沉积到物品表面。
离子镀
这种方法是将蒸发的材料电离并加速其向基体移动，从而增强涂层的附着力和密度。
3.增强性能
PVD 镀膜可大大提高被镀物体的表面性能。
它们具有极高的表面硬度、低摩擦系数以及出色的耐磨性和耐腐蚀性。
这些特性在对耐用性和使用寿命要求极高的应用中至关重要。
4.应用和定位
由于 PVD 是一种 "视线 "技术，因此物体在腔体内的定位至关重要。
物体可能需要旋转或有策略地放置，以确保完整均匀的涂层。
5.反应性气体
在某些情况下，沉积过程中会将氮气、乙炔或氧气等活性气体引入腔室。
这样就能制造出具有定制物理、结构和摩擦学特性的各种复合涂层。
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