知识 如何沉积薄膜金属?4 项基本技术详解
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

如何沉积薄膜金属?4 项基本技术详解

薄膜金属沉积是一种在基底上涂敷金属薄层的工艺。

这可以改变基底的特性,如光学、电气或腐蚀特性。

该工艺在半导体制造、光学和生物传感器等多个行业中都至关重要。

实现薄膜金属沉积有几种技术。

1.蒸发

如何沉积薄膜金属?4 项基本技术详解

蒸发是指加热金属直至其变成蒸汽。

蒸气随后凝结在基底上。

这种方法适用于沉积熔点较低的材料。

它常用于生产光学镀膜和微电子产品。

2.溅射

在溅射工艺中,用高能粒子(通常是离子)轰击由所需金属制成的靶材。

这将导致原子从靶材中喷射出来并沉积到基底上。

溅射可以使薄膜具有更好的附着力和均匀性。

它通常用于制造镜子和半导体器件。

3.化学气相沉积(CVD)

化学气相沉积涉及气态化合物在基底上沉积固体薄膜的反应。

该工艺可通过控制生产出具有精确厚度和成分的薄膜。

这使其成为电子和纳米技术先进应用的理想选择。

4.电镀

电镀是最古老的薄膜沉积方法之一。

将基底浸入含有溶解金属离子的溶液中。

施加电流使离子沉积到基底上。

电镀被广泛用于各种物体的装饰和保护涂层。

每种方法都有其优点。

选择哪种方法取决于应用的具体要求。

这些要求包括金属的类型、所需的薄膜厚度以及最终产品所要求的性能。

薄膜沉积是现代制造业中一种多功能的基本工艺。

它能制造出具有增强或新颖特性的材料。

继续探索,咨询我们的专家

了解推动半导体、光学和生物传感器行业创新的尖端薄膜金属沉积解决方案。

在 KINTEK SOLUTION,我们提供全面的沉积技术,包括蒸发、溅射、CVD 和电镀。

这些技术可根据您的特定应用需求量身定制。

利用 KINTEK SOLUTION 提升您的制造工艺,释放增强或新型材料性能的潜力--让精度与性能完美结合。

立即了解我们的创新解决方案!

相关产品

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

用于软包装锂电池的镍铝片

用于软包装锂电池的镍铝片

镍片用于生产圆柱形电池和袋装电池,正极铝和负极镍用于生产锂离子电池和镍电池。

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能,常用于电子束蒸发工艺。

电子束蒸发石墨坩埚

电子束蒸发石墨坩埚

主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术,通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。

石墨蒸发坩埚

石墨蒸发坩埚

用于高温应用的容器,可将材料保持在极高温度下蒸发,从而在基底上沉积薄膜。

红外线传输涂层蓝宝石片/蓝宝石基板/蓝宝石窗口

红外线传输涂层蓝宝石片/蓝宝石基板/蓝宝石窗口

这种基板由蓝宝石制成,具有无与伦比的化学、光学和物理特性。其卓越的抗热震性、耐高温性、耐砂蚀性和耐水性使其与众不同。

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

倾斜旋转式等离子体增强化学沉积(PECVD)管式炉设备

介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉,用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。

钼/钨/钽蒸发舟

钼/钨/钽蒸发舟

蒸发舟源用于热蒸发系统,适用于沉积各种金属、合金和材料。蒸发舟源有不同厚度的钨、钽和钼,以确保与各种电源兼容。作为一种容器,它可用于材料的真空蒸发。它们可用于各种材料的薄膜沉积,或设计成与电子束制造等技术兼容。

镀铝陶瓷蒸发舟

镀铝陶瓷蒸发舟

用于沉积薄膜的容器;具有铝涂层陶瓷本体,可提高热效率和耐化学性。

薄层光谱电解槽

薄层光谱电解槽

了解我们的薄层光谱电解槽的优势。耐腐蚀、规格齐全、可根据您的需求定制。

金属圆盘电极

金属圆盘电极

使用我们的金属盘电极提升您的实验水平。高品质、耐酸碱,可根据您的具体需求进行定制。立即了解我们的完整型号。

用于锂电池包装的铝塑软包装薄膜

用于锂电池包装的铝塑软包装薄膜

铝塑膜具有出色的电解质特性,是软包装锂电池的重要安全材料。与金属壳电池不同,用这种薄膜包裹的袋装电池更加安全。

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

硒化锌(ZnSe)窗口/基板/光学透镜

硒化锌(ZnSe)窗口/基板/光学透镜

硒化锌是由锌蒸汽与 H2Se 气体合成的,在石墨吸附器上形成片状沉积物。

耐高温光学石英玻璃板

耐高温光学石英玻璃板

探索光学玻璃板在电信、天文等领域精确操纵光线的强大功能。用超凡的清晰度和定制的折射特性开启光学技术的进步。

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

红外硅/高阻硅/单晶硅透镜

硅(Si)被广泛认为是近红外(NIR)范围(约 1 μm 至 6 μm)应用中最耐用的矿物和光学材料之一。

400-700nm 波长 抗反射/AR 镀膜玻璃

400-700nm 波长 抗反射/AR 镀膜玻璃

AR 涂层应用于光学表面以减少反射。它们可以是单层或多层,旨在通过破坏性干涉将反射光降至最低。

实验室用浮法钠钙光学玻璃

实验室用浮法钠钙光学玻璃

钠钙玻璃作为薄膜/厚膜沉积的绝缘基板广受欢迎,它是通过将熔融玻璃浮在熔融锡上制成的。这种方法可确保厚度均匀,表面特别平整。

硫化锌(ZnS)窗口

硫化锌(ZnS)窗口

Optics 硫化锌 (ZnS) 窗具有出色的红外传输性能,传输范围在 8-14 微米之间。具有出色的机械强度和化学惰性,适用于恶劣环境(比硒化锌窗更硬)。

MgF2 氟化镁晶体衬底/窗口

MgF2 氟化镁晶体衬底/窗口

氟化镁(MgF2)是一种四方晶体,具有各向异性,因此在进行精密成像和信号传输时,必须将其作为单晶体处理。

CaF2 基质/窗口/透镜

CaF2 基质/窗口/透镜

CaF2 窗口是一种由结晶氟化钙制成的光学窗口。这种窗口用途广泛,对环境稳定,抗激光损伤,在 200 纳米到约 7 μm 范围内具有稳定的高透射率。

碳化硅(SIC)陶瓷片平板/波纹散热器

碳化硅(SIC)陶瓷片平板/波纹散热器

碳化硅(原文如此)陶瓷散热器不仅不会产生电磁波,还能隔离电磁波和吸收部分电磁波。


留下您的留言