知识 如何沉积薄膜金属?4 项基本技术详解
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 1个月前

如何沉积薄膜金属?4 项基本技术详解

薄膜金属沉积是一种在基底上涂敷金属薄层的工艺。

这可以改变基底的特性,如光学、电气或腐蚀特性。

该工艺在半导体制造、光学和生物传感器等多个行业中都至关重要。

实现薄膜金属沉积有几种技术。

1.蒸发

如何沉积薄膜金属?4 项基本技术详解

蒸发是指加热金属直至其变成蒸汽。

蒸气随后凝结在基底上。

这种方法适用于沉积熔点较低的材料。

它常用于生产光学镀膜和微电子产品。

2.溅射

在溅射工艺中,用高能粒子(通常是离子)轰击由所需金属制成的靶材。

这将导致原子从靶材中喷射出来并沉积到基底上。

溅射可以使薄膜具有更好的附着力和均匀性。

它通常用于制造镜子和半导体器件。

3.化学气相沉积(CVD)

化学气相沉积涉及气态化合物在基底上沉积固体薄膜的反应。

该工艺可通过控制生产出具有精确厚度和成分的薄膜。

这使其成为电子和纳米技术先进应用的理想选择。

4.电镀

电镀是最古老的薄膜沉积方法之一。

将基底浸入含有溶解金属离子的溶液中。

施加电流使离子沉积到基底上。

电镀被广泛用于各种物体的装饰和保护涂层。

每种方法都有其优点。

选择哪种方法取决于应用的具体要求。

这些要求包括金属的类型、所需的薄膜厚度以及最终产品所要求的性能。

薄膜沉积是现代制造业中一种多功能的基本工艺。

它能制造出具有增强或新颖特性的材料。

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