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电子束蒸发是一种物理气相沉积（PVD）技术。它使用聚焦电子束在真空环境中加热和气化源材料。这样就能在基底上沉积薄而高纯度的涂层。
高压电流（5-10 千伏）通过钨丝。这将钨丝加热至高温，并导致电子的热离子发射。
发射的电子利用磁场聚焦成统一的光束。然后，它们被引向装有待蒸发材料的坩埚。
高能电子束将能量传递给坩埚中的材料。这将导致材料蒸发或升华。
蒸发的材料穿过真空室。它沉积到位于源材料上方的基底上，形成一层高纯度的薄涂层。
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主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术，通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。
电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。
在电子枪光束蒸发中，坩埚是一种容器或源支架，用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。
钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能，常用于电子束蒸发工艺。
用于高温应用的容器，可将材料保持在极高温度下蒸发，从而在基底上沉积薄膜。
它可用于各种金属和合金的气相沉积。大多数金属都能完全蒸发而不损失。蒸发筐可重复使用1。
有机物蒸发舟是在有机材料沉积过程中实现精确均匀加热的重要工具。
用于沉积薄膜的容器；具有铝涂层陶瓷本体，可提高热效率和耐化学性。
纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金（WC-Co）为基体，采用化学气相法（简称 CVD 法）在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。
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射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
有机物蒸发坩埚，简称蒸发坩埚，是一种在实验室环境中蒸发有机溶剂的容器。
