在溅射过程中，等离子体是通过气体电离形成的。气体电离包括在真空室中创造一个低压气体环境，并引入氩气等气体。然后向气体施加高压，使原子电离并形成等离子体。
详细说明：
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真空室和气体简介：
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该过程首先要对真空室进行抽真空，以形成真空。这一点至关重要，因为它可以减少可能干扰溅射过程的空气分子和其他污染物的数量。达到所需的真空度后，将惰性气体（通常是氩气）引入腔室。气体压力保持在支持电离的水平，通常不超过 0.1 托。气体电离：
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引入氩气后，向气体施加直流或射频高压。该电压足以电离氩原子，击落电子并产生带正电荷的氩离子和自由电子。氩的电离电势约为 15.8 电子伏特 (eV)，这是从原子中移除一个电子所需的能量。在气体中施加电压可促进等离子体的形成，等离子体是一种电子从原子中剥离的物质状态。
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等离子体的形成：
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电离后的气体，即现在的等离子体，包含中性气体原子、离子、电子和光子的混合物。由于这些粒子之间的动态相互作用，等离子体处于接近平衡的状态。等离子体通过持续施加电压来维持电离过程，使等离子体保持活跃。与目标材料的相互作用：
等离子体位于目标材料附近，目标材料通常是金属或陶瓷。等离子体中的高能氩离子在电场的作用下加速向目标材料运动。当这些离子与靶材碰撞时，它们会传递能量，导致靶材中的原子被喷射或 "溅射 "到气相中。这些喷射出的粒子随后在基底上移动和沉积，形成薄膜。
控制和增强等离子体：
