PVD 涂层又称物理气相沉积涂层，是一种利用真空沉积技术在基材表面涂上一层薄薄的材料的工艺。
该工艺包括加热目标材料直至其汽化，然后将汽化的材料导入硬件表面。
生成的薄膜只有几纳米到几微米厚，但却具有改善耐磨性、提高硬度和增强外观美感等显著优点。
如何应用 PVD 涂层？5 个关键步骤说明
1.PVD 涂层简介
PVD 工艺主要有三种：热蒸发、溅射沉积和离子镀。
在热蒸发过程中，要沉积的材料被加热直至汽化，然后蒸汽凝结在基底上。
在溅射沉积中，用高能离子轰击目标材料，使原子喷射出来并沉积到基底上。
在离子镀中，目标材料被电离并向基底加速，形成薄膜。
2.PVD 涂层的优点
与传统涂层相比，PVD 涂层有几个优点。
它们更坚硬、更耐磨，适用于对耐用性要求较高的应用。
它们还具有更高的化学稳定性，从而提高了在各种环境中的耐腐蚀性。
PVD 涂层可以调整以产生多种统一的涂层颜色，从而实现产品外观的定制化。
此外，PVD 涂层与基材的结合力很强，可应用于多种材料。
3.PVD 涂层工艺
PVD 镀膜工艺在真空室中进行，温度在 50 至 600 摄氏度之间。
从目标材料中蒸发出来的原子穿过真空室，嵌入到被镀物体中。
为确保正确镀膜，物体必须在真空室中正确定位，或在沉积过程中旋转。
4.机械、化学和光学特性
总的来说，PVD 涂层是一种现代化的环保工艺，可生产出具有优异机械、化学和光学特性的薄层。
它能提高被涂物体的表面硬度、低摩擦系数、防腐蚀和耐磨损性能。
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