溅射是物理气相沉积（PVD）中使用的一种工艺。它是将原子从固体靶材料喷射到气相中。这是通过用高能离子轰击靶材来实现的。溅射被广泛用于薄膜沉积和分析技术。
什么是溅射系统？- 6 个关键步骤说明
1.真空室设置
该过程首先将需要镀膜的基片置于真空室中。然后在真空室中充入惰性气体，通常是氩气。氩气不会与工艺中涉及的材料发生反应。
2.气体电离
目标材料带负电荷，使其成为阴极。负电荷导致自由电子从阴极流出。这些自由电子与氩气原子碰撞，击落气体原子中的电子并使其电离。
3.溅射机制
电离后的气体原子现在带正电，被吸引到带负电的靶件（阴极）上。它们被电场加速。当这些高能离子与目标碰撞时，它们会将原子或分子从目标表面移开。这一过程称为溅射。
4.薄膜沉积
喷射出的靶材料原子形成蒸汽流穿过腔室。它们沉积到基底上，在基底上形成薄膜。这种沉积发生在原子层面。
5.溅射系统的类型
溅射系统有多种类型，包括离子束溅射、二极管溅射和磁控溅射。每种类型在如何产生离子并将其引向目标方面都有所不同。但是，基本的溅射机制是相同的。
6.磁控溅射
在磁控溅射中，在低压气体上施加高压以产生高能等离子体。该等离子体发出由电子和气体离子组成的辉光放电。这通过提高气体的电离率来增强溅射过程。
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