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化学气相沉积（CVD）是一种在受控环境中通过化学反应在基底上沉积一薄层材料来合成宝石（尤其是钻石）的复杂方法。这种技术不仅效率高，而且生产出的宝石在物理和化学性质上与天然同类产品完全相同，因其质量高、价格低廉而备受青睐。
工艺概述：
CVD 工艺的第一步是将一粒薄薄的金刚石种子放入一个密封的腔室中，并将其加热到高达 800°C 的温度。然后在腔体内注入富碳气体混合物，通常是氢气和甲烷。通过电离作用，这些气体中的分子键被打破，使纯碳附着在金刚石种子上。随着碳的积累，它会与种子形成原子键，逐渐形成更大的钻石。这种逐层生长的过程模仿了钻石的自然形成过程，但时间大大缩短，通常只需 2 到 4 周。技术细节：
化学气相沉积法涉及多种技术路线，其中微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）因其成熟和广泛的应用而最为普遍。在微波等离子体化学气相沉积工艺中，微波能量用于在反应室中产生辉光放电，使气体分子电离并产生等离子体。这种等离子体通过在原子水平上逐层沉积碳原子，促进小金刚石种子生长成较大的单晶金刚石。
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