PVD（物理气相沉积）和 CVD（化学气相沉积）是将薄膜应用到各种材料上的方法。
5 个主要区别说明
1.工艺机制
PVD 涂层： PVD 涉及沉积薄膜的物理过程。
CVD 镀膜： CVD 涉及在受控环境中的化学反应。
2.涂层特征
PVD 涂层： PVD 所产生的涂层一般较薄、光滑、耐用性高。
CVD 涂层： 与 PVD 涂层相比，CVD 涂层可能更厚、更粗糙。
3.材料兼容性
PVD 涂层： 对于要求高纯度和特定机械性能的应用，PVD 通常是首选。
CVD 涂层： CVD 可用来对多种材料进行涂层，因此可用于不同的应用领域。
4.耐温性
PVD 涂层： PVD 涂层能够承受高温。
CVD 涂层： CVD 涂层的耐温性不一定与 PVD 涂层相同。
5.成本考虑
PVD 涂层： 由于设备和工艺的原因，PVD 的成本通常较高。
CVD 涂层： CVD 的成本可能较低，但需要更复杂的设置和控制。
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