知识 石墨烯的生长机制是什么?5 个重要见解
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 3个月前

石墨烯的生长机制是什么?5 个重要见解

石墨烯的生长机制是一个引人入胜的过程,主要受所用金属催化剂类型的影响。

最常见的两种催化剂是铜(Cu)和镍(Ni)。

铜的碳溶解度低,有利于表面生长机制。

在高温下,石墨烯通过碳氢化合物的分解在铜表面形成。

另一方面,由于镍的碳溶解度较高,因此可实现表面偏析和沉淀机制。

在这种情况下,碳在高温下扩散到块状镍中,并在冷却时发生偏析,从而在金属表面形成石墨烯薄片。

5 对石墨烯生长机制的主要见解

石墨烯的生长机制是什么?5 个重要见解

1.铜表面生长

石墨烯在铜上的生长涉及碳氢化合物在高温下分解的过程。

这将释放出碳原子,然后在铜表面聚集。

这种机制之所以受到青睐,是因为铜不容易溶解碳,迫使碳留在表面形成石墨烯。

石墨烯的生长通常是一个二维过程,碳种会添加到生长中的石墨烯岛的边缘,最终凝聚成一个连续的单层。

一旦形成完整的石墨烯层,表面的活性就会降低,从而抑制其他石墨烯层的进一步生长。

2.镍上的分离和沉淀

相比之下,由于镍具有溶解碳的能力,因此其生长机制更为复杂。

在高温合成过程中,碳原子扩散到镍基体中。

当系统冷却时,这些碳原子分离并从镍中析出,在表面形成石墨烯层。

这一过程受冷却速度和镍中初始碳浓度的影响,会影响所生成石墨烯层的数量和质量。

3.合成条件的影响

石墨烯的成核和生长在很大程度上取决于各种合成条件。

这些条件包括温度、压力、前驱体通量和成分以及催化剂的特性。

催化剂的特性,如结晶度、成分、晶面和表面粗糙度,可显著影响石墨烯晶体的形状、取向、结晶度、成核密度、缺陷密度和演化。

4.研究与开发

对石墨烯生长机制的研究非常广泛。

研究的重点是优化单层石墨烯的生产条件。

目前已开发出蒸汽捕集等技术来合成大晶粒单晶石墨烯。

这表明了生长过程中局部环境条件的重要性。

此外,还利用 COMSOL Multiphysics 等建模和模拟工具更好地了解和预测不同条件下的生长机制。

5.对应用的重要性

了解石墨烯的生长机制对于控制高质量石墨烯的生产至关重要。

这对于石墨烯在电子、复合材料和储能等多个领域的应用至关重要。

继续探索,咨询我们的专家

在 KINTEK SOLUTION 探索高质量石墨烯生产背后的秘密!

我们的前沿研究深入探讨了金属催化剂、合成条件和石墨烯迷人的生长机制之间错综复杂的关系。

今天就加入我们的尖端技术之旅,利用我们的优质产品和专家支持释放您的研究潜力。

让我们携手创新,共创美好未来!

相关产品

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

CVD 掺硼金刚石

CVD 掺硼金刚石

CVD 掺硼金刚石:一种多功能材料,可实现量身定制的导电性、光学透明性和优异的热性能,应用于电子、光学、传感和量子技术领域。

用于热管理的 CVD 金刚石

用于热管理的 CVD 金刚石

用于热管理的 CVD 金刚石:导热系数高达 2000 W/mK 的优质金刚石,是散热器、激光二极管和金刚石氮化镓 (GOD) 应用的理想之选。

电子束蒸发石墨坩埚

电子束蒸发石墨坩埚

主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术,通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。

石墨蒸发坩埚

石墨蒸发坩埚

用于高温应用的容器,可将材料保持在极高温度下蒸发,从而在基底上沉积薄膜。

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

IGBT 石墨化实验炉

IGBT 石墨化实验炉

IGBT 实验石墨化炉是为大学和研究机构量身定制的解决方案,具有加热效率高、使用方便、温度控制精确等特点。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

使用我们专为实验室和金刚石生长设计的 Bell-jar Resonator MPCVD 设备获得高质量的金刚石薄膜。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备,这是一种微波等离子体化学气相沉积方法,用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。

915MHz MPCVD 金刚石机

915MHz MPCVD 金刚石机

915MHz MPCVD 金刚石机及其多晶有效生长,最大面积可达 8 英寸,单晶最大有效生长面积可达 5 英寸。该设备主要用于大尺寸多晶金刚石薄膜的生产、长单晶金刚石的生长、高质量石墨烯的低温生长以及其他需要微波等离子体提供能量进行生长的材料。

大型立式石墨化炉

大型立式石墨化炉

大型立式高温石墨化炉是一种用于碳纤维和炭黑等碳材料石墨化的工业炉。它是一种高温炉,温度最高可达 3100°C。

高导热薄膜石墨化炉

高导热薄膜石墨化炉

高导热薄膜石墨化炉温度均匀,能耗低,可连续运行。

卧式高温石墨化炉

卧式高温石墨化炉

水平石墨化炉:这种炉子的加热元件水平放置,可使样品均匀加热。它非常适合需要精确温度控制和均匀性的大型或笨重样品的石墨化。

CVD 金刚石拉丝模坯

CVD 金刚石拉丝模坯

CVD 金刚石拉丝模坯:硬度高、耐磨性好,适用于各种材料的拉丝。是石墨加工等磨料磨损加工应用的理想选择。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

铜镍合金(CuNi)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

铜镍合金(CuNi)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格为您的实验室需求提供高质量的铜镍合金 (CuNi) 材料。我们的定制产品包括溅射靶材、涂层、粉末等。立即订购!

高纯镍(Ni)溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

高纯镍(Ni)溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

您在寻找用于实验室的高品质镍 (Ni) 材料吗?我们可为您量身定制!我们拥有极具竞争力的价格以及各种尺寸和形状可供选择,能够满足您的各种独特要求。

铜锆合金 (CuZr) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

铜锆合金 (CuZr) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

了解我们根据您的独特需求量身定制的价格合理的铜锆合金材料系列。浏览我们的溅射靶材、涂层、粉末等产品。

镍铬合金 (NiCr) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

镍铬合金 (NiCr) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

以合理的价格为您的实验室需求提供高质量的镍铬合金 (NiCr) 材料。有多种形状和尺寸可供选择,包括溅射靶材、涂层、粉末等。量身定制,满足您的独特需求。

铜镍铟合金(CuNiIn)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

铜镍铟合金(CuNiIn)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找铜镍铟材料?我们价格合理的产品有不同的纯度、形状和尺寸,可满足您的需求。请浏览我们的溅射靶材、粉末、箔等产品!

硫化锌(ZnS)窗口

硫化锌(ZnS)窗口

Optics 硫化锌 (ZnS) 窗具有出色的红外传输性能,传输范围在 8-14 微米之间。具有出色的机械强度和化学惰性,适用于恶劣环境(比硒化锌窗更硬)。

高纯氧化镍(Ni2O3)溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

高纯氧化镍(Ni2O3)溅射靶材/粉末/线材/块材/颗粒

以实惠的价格为您的实验室需求找到高品质的氧化镍材料。我们量身定制的解决方案可满足您的特定要求。我们提供各种形状、尺寸和规格的溅射靶材、涂层、粉末等。

镍硅合金(NiSi)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

镍硅合金(NiSi)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找镍硅合金材料?我们专业生产和定制的材料有各种形状和尺寸,可满足您的独特需求。以合理的价格获取溅射靶材、涂层材料、粉末等。

铁镍合金 (FeNi) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

铁镍合金 (FeNi) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

根据您的实验室需求量身定制经济实惠的铁镍合金材料。我们的镍铁产品有各种尺寸和形状,从溅射靶材到粉末和铸锭。立即订购!

铬镍合金 (CrNi) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

铬镍合金 (CrNi) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

正在为您的实验室寻找高品质的铬镍合金(CrNi)材料?那就来看看我们的专业定制产品吧。探索我们的各种尺寸和规格,包括溅射靶材、涂层、粉末等。立即购买!

高纯度金属板 - 金/铂/铜/铁等...

高纯度金属板 - 金/铂/铜/铁等...

使用我们的高纯度金属板提升您的实验水平。金、铂、铜、铁等等。非常适合电化学和其他领域。

负极材料石墨化炉

负极材料石墨化炉

电池生产用石墨化炉温度均匀,能耗低。负极材料石墨化炉:电池生产的高效石墨化解决方案,功能先进,可提高电池性能。

连续石墨化炉

连续石墨化炉

高温石墨化炉是碳材料石墨化处理的专业设备。它是生产优质石墨产品的关键设备。它具有温度高、效率高、加热均匀等特点。适用于各种高温处理和石墨化处理。广泛应用于冶金、电子、航空航天等行业。

真空热压炉

真空热压炉

了解真空热压炉的优势!在高温高压下生产致密难熔金属和化合物、陶瓷以及复合材料。


留下您的留言